一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究.pdf

V o l. 2 1 高 等 学 校 化 学 学 报 N o. 9　 2 0 0 0 年 9 月 　　　　　　　　　CH EM ICAL JOU RN AL O F CH IN E SE U N IV ER S IT IE S　　　　　　　　 1485～ 1488　 一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究 陈　明　李元昌　洪啸吟 (清华大学化学系, 北京 100084) 焦晓明　程爱萍 (北京化学试剂所, 北京 100022) 摘要　研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺(HMMM ) 、六氟磷酸根二苯碘　盐和光敏剂组成 的水型紫外化学增幅抗蚀剂, 发现二苯基碘　盐不仅可以作为光敏产酸物, 而且可以作为阻溶剂. 用碘　盐 作为光敏产酸物, 光解产生的酸可以在中烘时催化甲酚醛树脂与 HMMM 的交联反应; 用氢氧化钠乙醇水 溶液显影可以得到负性光刻图形; 采用碘　盐作为阻溶剂, 可阻止非曝光区的胶膜溶解在显影液中, 用稀的 氢氧化钠水溶液显影可以得到正性光刻图形. 通过优化后的光刻工艺条件, 采用不同的显影液和光刻工艺 流程, 实现了同一光致抗蚀剂的正负性反转, 并分别得到负性和正性光刻图形. 关键词　化学增幅; 光敏产酸物; 阻溶剂; 负性光致抗蚀剂; 正性光致抗蚀剂 中图分类号　 63 1　　　　文献标识码　 　　　　文章编号　025 10790 (2000) O A 光致抗蚀剂是进行微细图形加工的一种关键化学品, 被广泛应用于微电子、微机械和印刷等领域 [ 1, 2 ] ( ) 中. 自 和 于 1982 年提出“化学增幅” 的概念以来, 化学增幅型 W illson Ito Ch em ica l am p lif icat ion 光致抗蚀剂由于其高分辨率和高光敏性已成为抗蚀剂的研究重点. 化学增幅抗蚀剂与传统的光致抗蚀剂不同, 传统光致抗蚀剂在光线或射线照射下发生的交联或分 解反应是化学计量式的, 即吸收一个光子至多引起一次化学反应, 而化学增幅抗蚀剂在受照射时产生 的是催化剂, 抗蚀剂的交联和分解反应可在催化剂作用下完成, 催化剂在反应中不被消耗, 因此效率 可大大提高. 同时, 由于酸催化的反应一般需要加热才能发生, 因此化学增幅光致抗蚀剂在曝光后需 要中烘. 　　利用同一光致抗蚀剂实现正负互用可以简化工艺, 因此对光致抗蚀剂图形反转的研究很早就引起 [3 ] 了人们的注意. 但以前的研究主要集中在酚醛树脂邻醌偶氮型光致抗蚀剂 . 本实验室曾以多元醇和 氨基树脂在酸催化剂作用下可发生交联反应为依据, 采用二苯碘　盐为光敏产酸物,