浅谈平面高压VDMOS工艺平台发展.pdfVIP

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  • 2019-03-20 发布于浙江
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浅淡平面高赝VDMOS_7:艺平台发展 电子质量 (2014第03期) 测试测量技术 浅谈平面高压 VDMOS工艺平台发展 SimpleIntroducetheTechnologyDevelopmentofVDMOS 鄢细根 (华越微电子有限公司,浙江绍兴312000) YanXi-gen(HuaYueMicrt~lectronicsCO,LTD.,ZhejiangShaoxing312000) 摘 要:该文从国内生产线的实际出发 ,简单介绍 了目前国内主流功率VDMOS器件生产厂家所采用的 平面高压VDMOS工艺平台,初步总结了当前各种成熟工艺平台具有的特点与优点,希望该文有助于闰 内同行之间相互借鉴与提高 ,目的是促进民族工业不断向前发展。 关键词:VDMOS—艺平台;元胞;主结;终端结构;分压环 ;场板;空间电荷区;PN结;EAS 中图分类号:TN432 文献标识

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