双源共蒸技术制备MgF2ZnS复合薄膜的特性-表面技术.PDFVIP

表面技术 第48 卷 第2 期 SURFACE TECHNOLOGY 2019 年2 月 ·82 · 双源共蒸技术制备MgF /ZnS 复合薄膜的特性 2 徐均琪，师云云，李候俊，苏俊宏 （西安工业大学 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室，西安 710021） 摘 要： 目的 以 MgF 和 ZnS 为单组分制备 MgF /ZnS 复合薄膜，研究复合薄膜的光学性能，以获取任意 2 2 折射率薄膜材料，并优化高损伤阈值激光薄膜的制备工艺。方法 基于光电极值膜厚监控原理，采用电子束 热蒸发和电阻热蒸发技术制备了复合薄膜，测量了复合薄膜的折射率、消光系数和透射率光谱，并对其激 光损伤特性进行了研究。结果 在所研究的工艺参数范围内，当 MgF2 和 ZnS 的沉积速率比为 5 ∶1、4 ∶1、 2 ∶1、1 ∶1 和 0.5 ∶1 时，所制备复合薄膜的折射率分别为 1.4227、1.4932、1.6318、1.9044 和 2.0762 （波 长 550 nm ）。复合薄膜的折射率符合正常色散，当沉积速率选取合适，可以获得介于两种组分薄膜材料之间 的任意折射率。对激光损伤性能测试的结果显示，不同沉积速率比率下制备的复合薄膜的激光损伤阈值可 能介于两种单组分薄膜之间，也可能高于每种单组分薄膜的激光损伤阈值，其激光损伤阈值最高比单组分 MgF2 薄膜高 28.6% ，比单组分 ZnS 薄膜高 96.4%。结论 采用光电极值法监控膜厚，可根据不同蒸发源的蒸 发特性，获得介于单组分膜料折射率之间的任意折射率材料，双源共蒸技术获取中间折射率是可行的。采 用双源共蒸技术制备的复合薄膜，可改善单组分膜层的缺陷，获得高于单组分薄膜激光损伤阈值的材料。 关键词：复合薄膜；折射率；消光系数；激光损伤阈值；热蒸发；双源共蒸 中图分类号：TG174.4 ；O484 文献标识码：A 文章编号：1001-3660(2019)02-0082-07 DOI ：10.16490/ki.issn.1001-3660.2019.02.012 Properties of MgF /ZnS Composite Films Prepared by 2 Dual-source Co-evaporation Technology XU Jun-qi , SHI Yun-yun, LI Hou-jun, SU Jun-hong (Shaanxi Province Thin Films Technology and Optical Test Open Key Laboratory, Xi’an Technological University, Xi’an 710021, China) ABSTRACT: The work aims to prepare MgF /ZnS composite films by MgF and ZnS single-component materials and study 2