半导体材料--硅和锗的化学制备.pptxVIP

1;2;3;4;5;6;7;8;9;10;11;12;13;14;15;16;17;18;19;20;21;22;24;三氯氢硅还原法;粗硅提纯到电子级多晶硅;27;28;29;30;31;32;33;34;35;36;37;38;39;40;41;42;44;45;二 化学性质;;三 二氧化硅的物理化学性质;;四 硅烷 (SiH4) 锗烷(GeH4); 与O2反应: SiH4+2O2 →SiO2+2H2O 与水反应: SiH4+ 4H2O →Si(OH)4+2H2 与碱反应: SiH4+ 2Na(OH)+H2O →Na2SiO3+2H2O 与卤素反应: SiH4+4CL2 →SiCL4+4HCL 不稳定性: SiH4= Si ↓ + 2H2 GeH4= Ge ↓ + 2H2 还原性: ;1-2 高纯硅的制备; 粗硅(工业硅)的生产 原料 石英砂（SiO2), 碳（来自焦炭、煤、木屑） 反应原理 SiO2+2C=Si+2CO(1600~1800OC) 反应温度下硅是气相，然后凝固成固相 粗硅的用途： 铝 60% 钢铁5% 硅油5% 半导体小于5% (因为纯度不够高,不能满足半导体器件的要求) ;1-2-1 三氯氢硅氢还原法;;3.SiHCL3氢还原 SiHCL3+H2 →Si+3HCL (SiHCL3:H2=1: 10~20mol) 4SiHCL3=Si+3SiCL4+2H2 SiCL4+ 2H2 =Si +4HCL ??应结束,制得高纯多晶硅,它的纯度用残留的B,P含量表示,称为基硼量,基磷量.(为什么?) ;1-2-2 硅烷热分解法;2.硅烷的提纯 低温精馏, 吸附法(分子筛,活性炭) 分子筛是一种铝硅酸盐,又称沸石.内部有很多小孔,利用小孔直径与分子大小的不同,使大小形状不同的分子分开.;3.硅烷的热分解 温度:800℃ SiH4=SiH2+H2 ⑴ SiH2=Si+H2 (2) SiH2+H2 = SiH4 (3) ;两种方法的比较;1-3 锗的富集与提纯;1-3-1锗的资源与富集;2.锗的富集 (1)火法 加热锗矿物,挥发掉部分砷,铅,锑,镉等物质,残留下锗的氧化物,叫锗富矿(锗精矿) (2)水法 ZnS →ZnSO4 ↓ →残液 → 锗→锗精矿;1-3-2 高纯锗的制取;1.粗制GeCL4的生成 GeO2+4HCL= GeCL4 +2H2O 同时杂质砷生成AsCL3,;2. GeCL4的提纯;3. GeCL4的水解;4. GeO2氢还原;一 物理性质比较;作业