磨粒和抛光垫特性对蓝宝石超声化学机械抛光的影响-中国表面工程.PDF

第 31 卷  第 6 期 中  国  表  面  工  程 Vol. 31 No. 6 2018 年 12 月 CHINA SURFACE ENGINEERING December 2018   doi: 10.11933/j.issn.1007−9289.20180824002 磨粒和抛光垫特性对蓝宝石超声化学机械抛光的影响 1,2 1 1,2 1,2 1,2 钟    敏 ，袁任江，李小兵 ，陈建锋 ，许文虎 (1. 南昌大学 机电工程学院，南昌 330031；2. 南昌大学 摩擦学重点实验室，南昌 330031) 摘 要: 抛光磨粒和抛光垫对蓝宝石超声化学机械抛光起重要作用，为研究磨粒和抛光垫特性对蓝宝石材料抛光效率 和质量的影响，利用自制超声弯曲振动辅助化学机械抛光装置，研究金刚石、氧化铝和二氧化硅3种不同磨粒，以及 表面多孔且无沟槽的聚氨酯抛光垫、IC1000抛光垫、IC1000和SubaⅣ复合抛光垫对蓝宝石材料去除率及抛光后表面 粗糙度的影响。由质量损失求得的去除率和原子力显微镜表面形貌测试结果表明：二氧化硅抛光液的去除率3.2 μm/h 接近氧化铝抛光液去除率3.8 μm/h，远大于金刚石抛光液去除率0.3 μm/h，且其抛光后的蓝宝石表面光滑、无损伤； 3种抛光垫抛光后的蓝宝石粗糙度接近，约0.10 nm，但聚氨酯抛光垫的去除率为3.2 μm/h，远大于IC1000抛光垫的去 除率 1.9 μm/h及复合垫的去除率 1.6 μm/h。二氧化硅抛光液和聚氨酯抛光垫适宜蓝宝石超声化学机械抛光工艺，可获 得高去除率和原子级光滑表面。 关键词: 蓝宝石；超声弯曲振动；化学机械抛光；抛光液；抛光垫 中图分类号: TG175 文献标志码: A 文章编号: 1007−9289(2018)06–0125–08 Effects of Abrasive Particles and Pads’ Characteristics on Ultrasonic Assisted Chemical Mechanical Polishing for Sapphire 1,2 1 1,2 1,2 1,2 ZHONG Min , YUAN Renjiang, LI Xiaobing , CHEN Jianfeng , XU Wenhu (1. School of Mechatronics Engineering, Nanchang University, Nanchang 330031, China; 2. Key Laboratory of Tribology, Nanchang University, Nanchang 330031, China) Abstract: Differen