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一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法
30 8 . 30 . 8
Vol No
2001 8 ACTA PHOT ONICA SINICA August 200 1
董小春 杜春雷 陈 波 潘 丽 王永茹 刘 强
( , , 6 10209)
提出了一种用于扩展固定配方明胶版 刻范围的新方法—预曝光 刻法( -
for e posure
mothod) , 并通过对光刻过程中各参量的控制, 最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深
度微浮雕透镜列阵的 刻, 该方法在 刻范围、 刻效果等方面都大大地优于传统的 刻方法.
本文通过对比预曝光 刻法与常用的几种 刻方法, 详尽的阐述了预曝光 刻法的原理及优
点, 为深浮雕光刻工艺的进一步发展奠定了基础 .
连续深浮雕微透镜列阵; 预曝光 刻法; 线性深度; 线性面形
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Fig . 1The relat ion ship of relief depth and e posure
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收稿日期: 2001-01-08
8 . 1007
Q 3
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