现代材料分析方法第十二章 扫描电子显微镜内容资料.pptVIP

现代材料分析方法第十二章 扫描电子显微镜内容资料.ppt

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现代材料分析方法第十二章 扫描电子显微镜内容资料.ppt

第三节 主要性能指标 分辨本领与景深 放大倍数及有效放大倍数 一、分辨本领与景深 扫描电镜的分辨本领有两重含义: 对于微区成份分析而言,它是指能分析的最小区域; 对于成象而言,它是指能分辨两点之间的最小距离。 两者主要取决于入射电子束的直径,但并不等于直径,因为入射电子束与试样相互作用会使入射电子束在试样内的有效激发范围大大超过入射束的直径,如图。入射电子激发试样内各种信号的发射范围不同,因此各种信号成象的分辨本领不同(如下表)。 表 各种信号成象的分辨本领 信号 分辨率(nm) 发射深度(nm) 二次电子 5~10 5~50 背散射电子 50~200 100~1000 吸收电子 100~1000 透射电子 0.5~10 感应电动势 300~1000 阴极荧光 300~1000 X射线 100~1000 500~5000 俄歇电子 5~10 0.5~2 扫描电镜的景深是指在样品深度方向可能观察的程度。在电子显微镜和光学显微镜中,扫描电镜的景深最大,对金属材料的断口分析具有特殊的优势。 二、放大倍数及有效放大倍数 扫描电镜的放大倍数M取决于显象管荧光屏尺寸S2和入射束在试样表面扫描距离S1之比,即: M=S2/S1 由于荧光屏尺寸S2是固定的,因此其放大倍数的变化是通过改变电子束在试样表面扫描距离S1来实现的。一般放大倍数在20~20万倍之间,且连续可调。 将样品细节放大到人眼刚能看清楚(约0.2mm)的放大倍数称为有效放大倍数M有效: M有效=人眼分辨本领/仪器分辨本领 第四节 表面形貌衬度原理及其应用 像衬原理 二次电子成象原理 二次电子形貌衬度的应用 一、像衬原理 ? 像的衬度就是像的各部分(即各像元)强度相对于其平均强度的变化。 ? SEM可以通过样品上方的电子检测器检测到具有不同能量的信号电子有背散射电子、二次电子、吸收电子、俄歇电子等。 ? 扫描电镜像的衬度来源有三个方面:a)由试样本身性质(表面凸凹不平、成分差别、位向差异表面电位分布);b)信号本身性质(二次电子、背散射电子、吸收电子);c)对信号的人工处理。 二、二次电子成象原理 二次电子图象反映试样表面状态,二次电子产额强烈地依赖于入射束与试样表面法线之间的夹角?: 二次电子产额 ? 1/cos? 即?角大的地方出来的二次电子多,呈亮象;?角小的地方出来的电子少,呈暗象,如图。 二次电子像衬度的特点: (1)分辨率高 (2)景深大,立体感强 (3)主要反应形貌衬度 * 第十二章 扫描电子显微镜 扫描电镜的优点 ①分辨率比较高,二次电子象 ②放大倍数连续可调,几十倍到二十万倍 ③景深大,立体感强 ④试样制备简单 ⑤一机多用 Optical Microscope VS SEM 扫描电镜原理— JEOL动画演示 第一节 电子束与固体样品相互作用 如图,当高能电子束轰击样品表面时,由于入射电子束与样品间的相互作用,99%以上的入射电子能量将转变成热能,其余约1%的入射电子能量,将从样品中激发出各种有用的信息,它们包括: 背散射电子 试样 吸收电子 透射电子 X射线 阴极发光 入射电子 二次电子 Auger电子 图12-1 电子束与固体样品作用是产生的信号 一、背散射电子 是指被固体样品原子反弹回来的一部分入射电子,它来自样品表层0.1~1?m深度范围,其能量近似于入射电子能量,背散射电子产额随原子序数的增加而增加,如图。利用背散射电子作为成象信号不仅能分析形貌特征,也可用来显示原子序数衬度,定性地进行成份分析。 二、二次电子 二次电子是被入射电子轰击出来的核外电子,它来自于样品表面100?左右(50~500?)区域,能量为0~50eV,二次电子产额随原子序数的变化不明显,主要决定于表面形貌,因此能非常有效地显示样品的表面形貌。 三、吸收电子 残存在样品中的入射电子。若在样品和地之间接入一个高灵敏度的电流表,就可以测得样品对地的信号,这个信号是由吸收电子提供的。(形貌、成分分析) 四、透射电子 当样品足够薄时(?0.1?m),透过样品的入射电子即为透射电子,其能量近似于入射电子的能量。 五、特征X射线 样品中原子受入射电子激发后,在能级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和波长的一种电磁波辐射,其发射深度为0.5~5?m范围。 六、俄歇电子 从距样品表面几个?深度范围内发射的并具有特征能量的二次电子,能量在50~1500eV之间。俄歇电子信号适用于表面化学成份分析。 七、阴极荧光 入射电子束轰击发光材料表面时,从样品中激发出来的可见光或红外光。 八、感应电动势 入射电子束照射半导体器件的PN结时,将产生由于电子束照射而引起的电动势.。

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