SPC統計過程控制-1.pptVIP

UCLX = X + A2 R UCLR = D4 R CLX = X CLR = R LCLX = X - A2 R LCLR = D3 R UCLp= P+3 p(1-p)/ni CLp= P UCLp= P-3 p(1-p)/ni P(不良率)管制图制作与解析 一.收集数据:决定样本大小n及抽样间隔,样本组数k. 二.记录数据及计算各组不良率pi和总不良率p 三.计算管制界限 四.绘制管制界限及描点 五.解析过程 六.过程能力研究 七.延长管制界限开始管制 一.收集数据 ?决定样本大小n及抽样间隔 ?n约在50-200个之间,不宜太小(np5) ?不同组的样本大小不一定相同. ?每组样本可识别日期、时间、作业员、机台、原材料或零件批. ?样本组数k. ?足够的样本组数以保证过程的主要变异有机会出现. ?25组以上的样本数据以检定过程的稳定及估计过程不良率. 二.记录数据及计算各组不良率p和总不良率p ?将数据记录于空白的计数值管制图上. ?计算各组不良率p和总不良率p. Pi=di/ni P=?di/ ? ni 二项分配(Binomial) 二项分配(Binomial): 自一检验批或制造批,其中批量为N,不良率为p?抽取n个样本,设X为取到之不良数,若每次都放回抽样,则X之分配为二项分配, P【X=x】=CxnPx(1-P ) n-x ; x=0,1,2,…………….n N-Np Np OO……ODDDDDD 检验批/制造批 O:良品 D:不良品 抽样 放回 n-x x N:批量 P :批之不良率 n:样本大小 x:不良数 二项分配(Binomial) 二项分配之平均数及变异数 μx =E【X】 = ? xCxnPx(1-P ) n-x =np σ 2x =V【X】= E【X2】- (E【X】) 2= np (1-P ) σx = V【X】= np (1-P ) 三.计算管制界限 四.绘制管制界限及描点 1.决定管制图之坐标尺寸 ?两管制图之坐标尺寸分开制订 ?中心线置于纵坐标之中心位置上 ?管制上下界限约置于纵坐标之2/3─3/4位置上 ?决定一格的大小及纵坐标之尺寸 2.依管制界限及各组pi之大小描绘于管制图上 ?中心线以实线描绘,管制界限以红色虚线描绘. ?依各组之统计量大小描点于管制图上 ?将各点以实线连接 UCL LCL p 五.解析过程 1.有点超过或低于管制界限;如下图 ?有点超过管制上限 ?有点低于管制下限 ?计算错误或描点错误 ? 计算错误或描点错误 ?过程不良已经变大,在某时变 ?实际过程不良变小 大或趋势性变大. ?量测系统曾经改变 ?量测系统曾经改变 UCL LCL P UCL LCL P 五.解析过程 2 有连串的点出现;如下图 连续7点出现在中心线的一侧 连续7点出现持续上升或下降 ?连串出现在上侧或上升 ?连串出现在下侧或下降 ?过程不良持续变大 ? 过程不良变小, ,应该调查而推广 ?量测系统的改变 ?量测系统的改变 ?当样本大小nP?5点出现在R以下的可能增加,因此连串的点必须以8点以上来代表过程不良的减小. UCL LCL P UCL LCL P 五.解析过程 2.3有明显的非机遇现象;如下图 超过2/3的点集中在中间的1/3区域中 少于2/3的点集中在