基于紫外纳米软压印工艺的陷光结构研究-电子与通信工程专业论文.docxVIP

1圳㈣1删哪删0㈣㈣Ⅲ0Y3026406 1圳㈣1删哪删0㈣㈣Ⅲ0 Y3026406 厦门大学学位论文著作权使用声明 本人同意厦门大学根据《中华人民共和国学位条例暂行实施办 法》等规定保留和使用此学位论文，并向主管部门或其指定机构送交 学位论文(包括纸质版和电子版)，允许学位论文进入厦门大学图书 馆及其数据库被查阅、借阅。本人同意厦门大学将学位论文加入全国 博士、硕士学位论文共建单位数据库进行检索，将学位论文的标题和 摘要汇编出版，采用影印、缩印或者其它方式合理复制学位论文。 本学位论文属于： ( )1．经厦门大学保密委员会审查核定的保密学位论文， 于 年 月 日解密，解密后适用上述授权。 ( )2．不保密，适用上述授权。 (请在以上相应括号内打“√”或填上相应内容。保密学位论文 应是已经厦门大学保密委员会审定过的学位论文，未经厦门大学保密 委员会审定的学位论文均为公开学位论文。此声明栏不填写的，默认 为公开学位论文，均适用上述授权。) 声明人(签名)：自彦弦 训(年r月彩日 万方数据 摘要随着科技的进步，很多器件在微纳尺寸下展现出很多与大块材料不同的性 摘要 随着科技的进步，很多器件在微纳尺寸下展现出很多与大块材料不同的性 质，而这些性质中有很多具有很强的应用前景，这推动了微纳器件的加工方法的 提高与性质的研究。 本文的第一章与第二章简单介绍了常见的纳米加工方法，包括电子束光刻 (EBL)、微纳自组装法及纳米压印技术。通过分析各种加工方法的优劣，介绍 了纳米压印技术的优势：它可以在保证加工精度较高同时又能降低其生产成本， 而这两个优点为纳米压印的工业化做了很好的铺垫。在第二章中，通过对常见的 三种纳米压印技术做出分析，并结合现有的设备，对纳米压印技术进行了相应的 改进，并详细的介绍了纳米压印的各个加工步骤及需要注意的地方。 本文的第三章与第四章，是利用我们之前介绍的纳米压印的加工方法对超级 吸收体及光学传感器这两种微纳器件进行加工。这两种微纳器件是基于表面等离 激元来进行设计的，而为了使加工器件更加有目的性，我们利用有限时域差分法 对各种尺寸的微纳器件进行了仿真。通过扫描电镜以及原子力显微镜的观测我们 再一次验证了纳米压印具有极高的精度，也正因此，我们实际测量的器件的光学 特性与仿真结果有很好吻合程度，更重要的是，我们所设计加工的器件的性能相 比之前的器件有很好的特性，具有很好的应用前景。对于超级吸收体，其吸收率 在可达到85％，而传感器的灵敏度达到ⅪU=514．7nm／RIU。 关键词：纳米压印：超级吸收体；光学传感器 万方数据 With With the progress of science and technology，many devices in micro and nano size show a lot of different properties with bulk materials，and these fascinating properties promote the micro／nano fabrication method and the improvement of the properties． The first and the second chapters of this paper briefly introduce the common fabrication methods，including electron beam lithography(EBL)，nanosphere lithography and nanoimprint technology．Through the analysis of the advantages and disadvantages of various fabrication methods，this paper introduces the advantage of nanoimprint technology：it Can ensure relatively precise nanostructures and reduce the cost of production，which are possible for mass production of large-area plasmonic devices．In the second chapter,we introduce three common nanoimprint technology and improve the nanoimprint technology based on the equipment we have．And the processing steps