上嗣}交通大掌博士掌位论文团发生氧化还原反应,生成0价的银粒子并原位沉积在光刻区域,且光刻线
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团发生氧化还原反应,生成0价的银粒子并原位沉积在光刻区域,且光刻线 条边缘处沉积的银粒子多于线条中心处的银粒子。分别研究了激光通量、镀 前清洗工艺对镀层形貌和选择性的影响,结果表明,当激光通量较低时,所 镀铜线宽度较小,镀层均匀;当激光通量增加时,所镀的铜线宽度增加,镀 层中间由于光刻造成的碳化程度增加而使铜的沉积减少甚至在镀线中间没有 铜的沉积;镀前采用稀硝酸溶液清洗,会使化学镀具有很好的选择性。
2.将聚酰亚胺薄膜表面通过化学改性在其表面束缚银离子,用激光在表面束缚 银离子的聚酰亚胺薄膜上光刻还原出图形化的银粒子,并将其应用于诱导图 形化的化学镀中。用ATR.FTIR、EDS、XPS、AFM、接触角等检测手段详细 跟踪考察了每一步的化学、物理变化。激光辐射还原生成的银纳米粒子的粒 径在120--200nm之间,银粒子基本上沿着激光扫描的方向生长,呈规则排 列,银纳米粒子与聚酰亚胺的粘附性良好。用SEM考察了激光通量和扫描速 度等对镀层的形貌和连续性、规整度的影响,结果表明,当激光通量较低时, 可得到均匀的镀层;当激光通量太高时,会使镀层中间出现镀不上的断带。 我们在实验结果的基础上推导了用于描述激光扫描速度与镀层连续性和均匀 性关系的数学公式,为实验条件的选择提供了理论指导。
3.用热还原法制备了在聚酰亚胺表面束缚银纳米粒子后,自组装上一层十二硫 醇膜并以该自组装膜作为光刻胶用紫外激光光刻出微米级图形,然后将薄膜 浸入化学镀液,成功地实现了聚酰亚胺表面的金属图形化沉积。用XPS、AFM 测试技术表征了聚酰亚胺表面束缚的银离子经高温烧结后生成的银纳米粒子 的化学价态和物理形貌,结果表明O价的银纳米粒子的粒径在35rim左右, 接触角测定和ATR.FTIR分析结果证实了聚酰亚胺表面生成了自组装十二硫 醇,聚酰亚胺的表面的平衡接触角提高到了128.0±L9。。用该方法制得的 化学镀层均匀致密。
4.将激光打印掩模法应用于聚酰亚胺表面的图形化化学镀铜的沉积,用激光打 印机在聚酰亚胺薄膜表面打印上用绘图软件画出的图形,然后将薄膜经过化 学处理并活化后在薄膜表面选择性束缚银离子,投入化学镀镀液后在聚酰亚 胺薄膜表面上沉积了图形化的化学镀铜层。
5.将PVP/AgN03胶体涂在聚酰亚胺薄膜表面,用激光辐射法还原出银纳米粒子
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s-海交通大掌博士掌位论文 并嵌入到聚酰亚胺薄膜中,并将此技术应用于激光诱导图形化化学镀中。通
过AFM、SEM考察了激光通量、胶体中PVP与AgN03的配比对激光诱导生 成的银纳米粒子形貌的影响,结果表明,激光通量的改变对银纳米粒子的尺 寸影响不大,但较高的激光通量会导致银纳米粒子沿着激光扫描方向发生一 定程度的定向排列:PVP与AgN03的配比对银纳米粒子的尺寸和密集度影响 较大:当PVP含量过小时,生成的银纳米粒子的粒径较小但排列密集;随着 PVP含量的增加,银纳米粒子的粒径也逐渐增加;但当PVP的含量进一步增 大时,造成激光辐射的还原效率降低,使得生成的银纳米粒子粒径减小且分 布稀疏;当PVP含量过多时,不能产生银纳米粒子的沉积。同时用我们提出 的用于描述扫描速度与镀层连续性和均匀性关系的数学公式分析了激光扫描 速度对化学镀层形貌的影响,得到的实验结果与数学公式吻合较好。
关键词:化学镀,激光,聚酰亚胺,铜沉积,银
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INTERACTIoN BETWEEN PoLYMER AND LASER (Ⅲ)MANUR~CTURE oF FINE CIRCUIT ON PoLYIMIDE FILM BY SELECTIVE ELECTROLESS PLATING USING SIIⅣER AS SEEDING
ABSTRACT
With the development of microelectronic industry,new techniques are urgently required to lower the pollution,simplify and the producing process of electronic circuit,and miniaturize the products.Electroless plating is widely used because it is a relatively low—cost technique,can be applied on non-metal substrates,and can be operated at roo
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