六氟化钨的合成与开发.docx

第 35 卷 第 4 期 2003 年 7 月 无机盐工业 INORGAN IC CHEMICA LS INDUSTRY 1 综述与专论  六氟化钨的合成与开发 于剑昆 (黎明化工研究院 , 河南洛阳 471001) 摘要 :介绍了国外六氟化钨的制备和精制工艺进 展 , 重 点描述 了电子 工业中 应用的 高纯度六 氟化钨 的制备 工 艺 。 同时介绍了六氟化钨的性质 、产品规范 、应用及经济等方面的状况 , 评述了六氟化钨在国内外的发展前景 。 关键词 :六氟化钨 ;合成 ;性质 ;用途 ;发展前景 中图分类号 :T Q 136.13 文献标识码 :A 文章编号 :1006-4990(2003)04 -0001 -04 Synthesis and development of tungsten hexafluoride Y U Jian-kun (Liming Research Institute of Chemical Industry , Henan Luoyang 471001, China) Abstract:T he prog resses of preparation and purificatio n o f tungsten hexafluoride , especially the preparation of high purity tungsten hex afluoride used in the electronic industry , are introduced.And the property , product specifications , appli- cation and economics of tung sten hexafluo ride are described.T he development prospect of tungsten hexafluo ride is also re- view ed . Key words:tung sten hexalfluo ride ;sy nthesis;property ;use ;development prospect 在钨的氟化物中 , WF6 是唯一稳定并被工业化 生产的品种 。它的主要用途是在电子工业中作为金 属钨化学气相沉积(CV D)工艺的原材料 , 特别是用 它制成的 WSi2可用作大规模集成电路(LSI)中的配 线材料 。通过混合金属的 CVD 工艺制得钨和铼的 复合涂层 , 可用于 X -射线的发射电极和太阳能吸 收器的制造 。此外 , WF 6在电子行业中还主要用作 半导体电极和导电浆糊等的原材料 。 WF 6还有 许多 非 电子 方 面的 应 用 , 例如 通 过 有氧氟化物等中间产物生 成 。 它还是 一种强氟化 剂 , 在室温下可使除金 、铂 、镍 、不锈钢和蒙乃尔合金 等以外的多种金属氟化 。WF6在高温下可被氢或其 它还原性气体(如 GeH4 、SiH2F2和二乙基硅烷等)还 原为金属钨和 HF , 该反应是它在 CVD 技术中应用 的基础 。 WF6有毒 , 对呼吸道 、眼睛和皮肤有强烈的刺激 和腐蚀作用 , 特别是对皮肤可产生类似 HF 的烧伤 。 美国职业安全与保健管理局规定的允许暴露极限值 -6 [ 1] CVD 技术使钨在钢的表面上生成坚硬的碳化钨可 用来改善钢的表面性能 。 它还可用于制造某些钨制 部件 , 如钨管和坩埚等 。 此外 , WF6还被广泛用作氟 化剂 、聚合催化剂及光学材料的原料等 。 为 2 .5 mg/ kg 或 0 .2 ×10 2 WF 6的制备与精制 2 .1 WF6的制备 (体积分数) 。 1 WF6的性质 WF 6在室温下是一种无色的气体 , 其密度是已 知气体中最大的 。 WF6的相对分子质量为 297 .84 , 其分子在常温下具有对称的正八面体结构 , 并具有 抗磁性 。其物化性质数据如下[ 1, 2] :熔点 2 .3 ℃, 沸 点 17 .2 ℃, 三 相 点 2 .0 ℃, 15 ℃时 液 体 密 度 3 .441 g/ cm3 , 摩尔气化热 26 .502 kJ/ mol, 摩尔熔融 热1 .758 kJ/mol , 摩尔升 华热 32 .448 kJ/ mol , 摩 尔 气 化 熵 91 .3 J/(mol · K ), 25 ℃ 时 的 热 容 118 .92 J/(mol·K), 17 ℃下的蒸汽压 100 .49 kPa 。 WF 6在水中迅速水解生成 WO 3和 HF , 有时还 目前工业上主要采用金属钨与氟气或 NF3 直接 反应的方法来制备