椭偏仪测量薄膜厚度和折射率讲义.pdfVIP

实验:椭圆偏振法测量薄膜厚度和折射率 随着现代科技的快速发展，薄膜材料的研究和应用受到越来越多的关注。如 何快速准确的测量薄膜材料的厚度和折射率等光学参数成为急需解决的问题之 一。椭圆偏振法是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法，这种方法测量灵敏度 高(可探测小于 0.1nm 的厚度变化) 、精度较好( 比干涉法高一到两个数量级) 、对 待测样品无损伤并且能同时测量薄膜的厚度和折射率。因而，目前椭圆偏振法已 经在光学、半导体、生物、医学等诸方面得到较为广泛的应用。 实验目的： 1. 了解椭圆偏振测量的基本原理，掌握利用椭偏仪测量薄膜厚度和折射率的 基本方法。 2. 学会组装椭圆偏振仪，熟悉椭圆偏振仪使用。 实验原理： 椭圆偏振法测量的基本思路是，经由起偏器产生的线偏振光经取向一定的 1/4 波片后获得等幅椭圆偏振光，把它投射到待测样品表面时，只要起偏器取适 当的透光方向，被待测样品表面反射出来的将是线偏振光．根据偏振光在反射前 后的偏振状态变化，包括振幅和相位的变化，便可以确定样品表面的许多光学特 性。 1 介质n1 界面1 薄膜n2 2 界面2 衬底n3 3 图1 光在薄膜和衬底系统上的反射和折射 图1 所示为一光学均匀和各向同性的单层介质膜．它有两个平行的界面，通 常，上部是折射率为n1 的空气(或真空)．中间是一层厚度为d 折射率为n2 的介 质薄膜，下层是折射率为 n3 的衬底，介质薄膜均匀地附在衬底上，当一束光射 到膜面上时，在界面1 和界面2 上形成多次反射和折射，并且各反射光和折射光 分别产生多光束干涉．其干涉结果反映了膜的光学特性。 设φ 表示光的入射角，φ 和φ 分别为在界面1 和2 上的折射角．根据折射 1 2 3 定律有： n sinφ=n sinφ ＝n sinφ (1) 1 1 2 2 3 3 光波的电矢量可以分解成在入射面内振动的P 分量和垂直于入射面振动的s 分量。用r1p、r1s 表示光线的p 分量、s 分量在界面 1 的反射系数，用r2p 、r2s 表 示光线的p 分量、s 分量在界面2 的反射系数。用Eip 、Eis 表示入射光波电矢量 的p 分量和s 分量，用Erp 、Ers 分别表示各束反射光电矢量的p 分量和s 分量的 和。由多光束干涉的复振幅计算可知： i2 i2 r1p r2p e r1s r2s e Erp i2 Eip (2) Ers i2 Eis (3) 1r r e 1r r e 1p 2p 1s 2s 其中2 表示相邻两分波的相位差,其中 = 2dn cos / 。   2 2 在椭圆偏振法测量中，为了简便，通常引入另外两个物理量 ψ和Δ 来描述 反射光偏振态的变化．它们与总反射系数的关系定义为： E / E