常压质谱中化学干扰来源研究.PDFVIP

35 3 ( ) Vol. 35 No. 3 第 卷 第 期 东华理工大学学报 自然科学版 2012 09 JOURNAL OF EAST CHINA INSTITUTE OF TECHNOLOGY Sep． 2012 年 月 doi :10 ． 3969 /j ． issn． 1674 -3504 ． 20 12 ． 03． 0 15 常压质谱中的化学干扰来源研究 ， ， ， ， ， 杨水平 朱志强 黄龙珠 张兴磊 朱腾高 陈焕文 ( ， 3300 13) 东华理工大学江西省质谱科学与仪器重点实验室 江西南昌 : ( API-MS) ， 。 API-MS 摘 要 重点对常压质谱 自身产生的背景噪声进行分析 并对其来源进行解析 通过对不 同厂 家生产的 。 ， ( DEP) 、 ( DBP) 、 进行测试 结果表明 其质谱 图背景噪声 中的碎 片 离子主要来 自邻苯二 甲酸二乙酯 邻苯二 甲酸二丁酯 邻 苯二 甲酸苄基丁基 酯( BBP) 和邻苯二 甲酸二异辛酯( DEHP) 等酞酸酯类化合物与十甲基环五硅 氧烷 ( D5) 和十二 甲基环 ( D6) ， ( O ) 。 六硅氧烷 等硅 酮类化合物 这些化合物很 可能来 自离子源中聚合材料制成的部件 如 型橡皮圈等 这 些仪器 自 ， 身产生的背景噪声可以影响样品 中如酞酸酯类和缩氨 酸类等化合物的分析检 出 因此 需要在分析过程 充分考虑到此类背 ， 。 景噪声的影响 并采取相应措施 降低和 消除背景干扰 : ; ; ; 关键词 常压质谱 离子源 背景干扰 酞酸酯类化合物 中图分类号:O657 ． 63 文献标识码:A 文章编号:1674 -3504 (20 12)03-0291-06 ， ， ， ． 20 12 ． ［J ］． : ，35 ( 3) : 291-296 ． 杨水平 朱志强 黄龙珠 等 常压质谱 中的化学干扰 来源研究 东华理工大学学报 自然科学版 Yang Shui-ping ，Zhu Zhi-qiang ，Huang Long-zhu ，et al． 20 12 ． Origin of the chemical noise in ambient mass spectrometry ［J ］． Jour- nal of East China Institute of Technology ( Natural Science) ，35 ( 3) : 291-296 ． 2004 ，Cooks (2006 )、Takats (2004 )、 2007)、 / (PADI )(Ra