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第 卷 第 期 华 侨 大 学 学 报 （自然 科 学 版 ）
３３ ３ Ｖｏｌ．３３ Ｎｏ．３
年 月 （ ）
２０１２ ５ ＪｏｕｒｎａｌｏｆＨｕａｉａｏＵｎｉｖｅｒｓｉｔ ＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅ Ｍａ．２０１２
ｑ ｙ ｙ
文章编号： （ ）
１０００５０１３２０１２０３０２５１０４
用衍射效率比测浮雕矩形光栅参量
陈唐荣，赵艮春，戴文海，庄其仁
（华侨大学 信息科学与工程学院，福建 厦门 ３６１０２１）
摘要： 基于矩形光栅的标量衍射效率公式，提出一种根据 级和 级衍射效率比来测量浮雕矩形光栅的刻
０ １
槽深度和折射率的方法，并对衍射效率与刻槽深度和入射角的关系进行分析 对刻槽深度分别为 ，
． ２．９０１．０１
的熔石英离子刻蚀矩形光栅进行测量，从实验上验证测量方法的正确性 研究结果表明：通过测量透过
μｍ ．
光栅的 级和 级衍射光强比，可反演出矩形光栅刻槽深度和塑料光栅材料的折射率，所测量光栅刻槽深度
０ １
和折射率的误差均小于 １％．
关键词： 矩形光栅；衍射效率比；激光衍射；光栅参数；衍射光强比
中图分类号： Ｏ４３６．１ 文献标志码： Ａ
光栅衍射器件因结构简单、体积小等优点在光纤通信和光纤传感技术领域得到广泛应用 随着光栅
．
种类的不断增加，各种光栅参数的测定显得尤为必要 目前，光栅参数的测量方法可分为两大类：直接测
．
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１ ２ ３
量法与间接测量法 前者常利用有关仪器，如分光计 、原子力显微镜 、衍射光栅结合 等来测
． ＣＣＤ
量光栅的相关参数 但这些仪器结构复杂、操作技术要求高，导致测量成本增大而不易被推广 近年来，
． ．
［ ］
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