纳米压印光刻机承片台的设计说明书.docVIP

PAGE 大学 毕 业 设 计（论 文） 题目 纳米压印光刻机承片台的设计 学生姓名： 学生学号： 指导教师： 机械工程 学院 机械设计制造及其自动化 专业 班 2011 毕业设计（论文）任务书 专业 机械设计制造及其自动化 班级 姓名 下发日期 20 题目 纳米压印光刻机承片台的设计 专题 主 要 内 容 及 要 求 大面积纳米压印光刻机是一种高效、高精度、低成本制造微纳米结构精密装备，是生产高密度磁盘、高亮度LED、微流体器件、微光学器件的核心设备，基于一种新型大面积整片晶圆纳米压印工艺，开展纳米压印光刻机承片台设计和数字化建模的研究。 课题的目的：了解纳米压印工艺、熟悉整片晶圆纳米压印的原理和工艺实现方法，完成大面积纳米压印光刻机承片台设计及数字化建模。 课题的内容和要求：承片台方案分析和总体结构设计，承片台系统的详细设计，整个承片台数字化建模。 主要技术参数 进 度 及 完 成 日 期 3 月7日 ~ 3月20日 毕业实习 3 月21日 ~ 4月3日 查阅资料、熟悉课题 4 月4日 ~ 4月17日 确定总体设计分析方案比较 4 月18日 ~ 5月1日 承片台的总体方案的设计 5 月2日 ~ 5月22日 承片台的详细的设计 5 月23日 ~ 5月29日 整个承片台的数字化建模和零件图绘制 5 月30日 ~ 6月15日 撰写毕业论文、准备答辩 教学院长签字 日 期 教研室主任签字 日 期 指导教师签字 日 期 指 导 教 师 评 语 指导教师: 年 月 日 指 定 论 文 评 阅 人 评 语 评阅人: 年 月 日 答 辩 委 员 会 评 语 评 定 成 绩 指导教师给定 成绩(30%) 评阅人给定 成绩(30%) 答辩成绩 （40%） 总 评 答辩委员会主席 签字 本科毕业设计（论文）说明书 PAGE PAGE I 摘要 纳米压印光刻技术是一种可以制造微纳米结构的制造技术，具有成本低，生产效率高和设备简易的特点。在压印中，最主要的问题是保证模板与基片的平行问题。模版与基片的不平行也将导致下压时模版与基片的相对滑移, 发生侧向扩张,影响压印的精度, 另外在起模时模版也会对压印特征造成破坏。因此压印过程中必须保证模版与基片的平行度。 本文主要介绍了纳米压印光刻机承片台的结构设计，实现6英寸整片晶元的大面积压印光刻。首先从总体上介绍了纳米压印光刻技术的发展，论述了相关的课题背景，纳米压印原理、整片晶圆纳米压印的装置和方法以及模板与基片的平行原理。在压印过程中，最主要的问题是保证模板与基片的平行问题。对现有承片台的结构分析，被动适应承片台和主动适应承片台的比较，找出各自优缺点。 然后结合对纳米压印光刻承片台的理解提出自己的方案设计，即底座与承片台之间是球体接触，实现模板与基片的平行，采用真空吸紧的方法固定承片台。对承片台的整体结构设计，包括承片台的底座，承片台的材料、加工等，另外还对需要的真空吸盘及真空元件的选择。 最后用UG软件完成承片台数字化模型。 关键词: 压印光刻; 承片台；平行 ABSTRACT Nano stamping photolithography technology is one kind of micro/nano structure can make the manufacturing technology, with low cost, high production efficiency and equipment simple features. In stamping, the main problem is the guarantee of the template and substrate parallel problems. when template press，Templates and substrate in is not parallel with the substrate, relative slip happens lateral dilation, af