烧成温度对合成莫来石陶瓷膜的影响.PDF

第 29 卷 　第 4 期 膜 　科 　学 　与 　技 　术 Vol . 29 　No . 4 2009 年 8 月 M EMBRAN E SCIEN CE AND TECHNOL O GY Aug. 2009 烧成温度对合成莫来石陶瓷膜的影响 漆志飞 , 陈纲领 , 漆 　虹 , 邢卫红 (南京工业大学 膜科学技术研究所 ,材料化学工程国家重点实验室 , 南京 2 10009) 摘 　要 : 以正硅酸乙酯 、硝酸铝和氟化铝为原料 ,采用溶胶 - 凝胶法在多孔莫来石陶瓷载体上 原位反应烧结合成了晶须状多孔莫来石陶瓷膜. 考察了在 1 200 ,1 300 ,1 400 ,1 500 ℃烧成温 度 、保温 2 h 后对莫来石相及其膜层表面微观结构的影响. 结果发现 :在烧成温度为 1 300 ℃时 出现了莫来石相 , 并随着烧成温度 的升高 , 莫来石相 的特征峰增强 ; 在氟化铝质量分数为 μ μ ( ) 10 % 、1 500 ℃保温 2 h 条件下 ,膜层表面生长出长为 2 . 5 m 、宽为 0 . 5 m 、长径比 长/ 宽 为 5 的莫来石晶须 ,并且此时形成的莫来石晶须比较均匀 ,莫来石陶瓷膜平均孔径为 0 . 75 μ m 左 右 ,纯水通量为 725 L/ (m2 ·h) . 关键词 : 莫来石 ; 晶须状结构 ; 原位反应烧结 ; 陶瓷膜 中图分类号 : TQ028 . 8 　　文献标识码 : A 　　文章编号 : 1007 - 8924 (2009) 04 - 0064 - 04 　　多孔陶瓷膜作为无机膜的一种 , 由于具有热稳 的p H 值在 1 600 ℃、保温 3 h 条件下合成的莫来石 定性和化学稳定性高 、耐压强度大等有机膜所无法 微观形貌. 但上述研究仅关注于莫来石晶须粉体材 比拟的特点 , 近年来在分离领域得到了广泛 的应 料的制备及其在耐火材料方面的应用 ,而对于晶须 用[ 1 ] . 目前 , 研 究和应用 比较活跃 的是用 Al O , 状莫来石在陶瓷膜方面的制备及其应用的报道却很 2 3 ZrO2 , TiO2 ,SiO2 等材料制备的陶瓷膜 ,其优点是耐 少见. 由于晶须状莫来石具有的针状骨架 ,既可以增 腐蚀性能好 ,缺点是这些材料制备的膜层表面是球 强陶瓷膜的强度和机械性能[7 ] ,又可以使陶瓷膜具 状或是椭球状 ,导致膜层孔隙率低 、调控困难. 莫来 有更好的分离选择性和更高的通量[ 8 ] ,这对于提高 ( ) 工业上陶瓷膜的通量将有重要意义. 石 Mullite 是 Al O - SiO 二元相图系统中唯一稳 2 3 2 定的结晶硅酸铝 ,其化学组成介于 3Al O ·2 SiO 和 Ke 等[ 8 ] 采用晶须状钛酸盐和晶须状勃姆石为 2 3 2 2