激光制备铌掺杂二氧化钛基透明导电薄膜-物理电子学专业论文.docxVIP

华 华 中 科 技 大 学 硕 士 学 位 论 文 I I 摘 要 透明导电氧化物（TCO）薄膜由于其优良的可见光透过性和导电性在平板显示器 件、触摸面板、太阳能光伏电池、反射热镜、气体敏感器件和透明 PN 结等领域有着 广阔的应用前景。本学位论文采用脉冲激光沉积技术（PLD）制备铌掺杂二氧化钛 （TNO）透明导电薄膜，并对薄膜的结构、光学性能以及电学性能进行了详细的研究。 结果表明所制备的 TNO 薄膜具有良好的可见光透过率以及低的电阻率，满足透明导 电薄膜的基本要求。论文的主要内容和结论如下： (1) 采用 PLD 技术在熔融石英衬底上制备了掺杂的锐钛矿 TiO2 薄膜。通过 X 射 线衍射仪（XRD）、X 射线荧光（XRF）、原子力显微镜（AFM）、场发射扫描电镜（FSEM） 对 TNO 薄膜的结构、组分、表面形貌进行了测试与表征。研究表明，当激光能量密 度为 3J/cm2、重复频率为 4Hz、沉积温度为 600℃、氧压为 0.8Pa 时，薄膜为（101） 择优取向的锐钛矿多晶膜，薄膜厚度约为 190nm。 (2) 采用紫外可见光光度计研究了 TNO 薄膜在可见光波段的平均透过率，结果表 明所制备的薄膜可见光透过率都超过 70%，薄膜的紫外吸收边随氧压的增大发生了蓝 移。 (3) 采用四探针平台和霍尔测试仪对 TNO 薄膜的电性能进行了研究。结果表明真 空退火使 TNO 薄