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光学领域基础技术　光学薄膜制程技术与应用 ?2006-10-19 长久以来，「光学薄膜製程技术」一直是光学领域中不可忽略重要基础技术，而且品质要求也越来越高，加上这五年来在资讯显示及光通讯科技快速发展之下，不论是在显示设备中分、合色元件，又或是在光通讯主、被动元件开发製程上，薄膜製程技术都是不可忽略重要技术。而在显示器技术、光通讯技术、生医光电技术…等，在全方位薄膜技术有其决定性的影响。本文专访国立中央大学光电科学研究所暨薄膜中心主任李正中博士，以多年来在光学显示器相关镀膜、各种类光学薄膜之光学特性及非光学特性研究经验与其发展技术，一同探讨光学薄膜製程技术是如何成为產业中，各个產业应用的最佳绿叶技术，求得理论及实务并重。 光学薄膜与镀膜技术的重要性　从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用；比方说，平时戴的眼镜、数位相机、各式家电用品，或者是钞票上的防偽技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础，近代光电、通讯或是雷射技术发展速度，将无法有所进展，这也显示出光学薄膜技术研究发展重要性。 一般来说，要使用多层薄膜时，必须根据设计者需求，藉用高低折射率薄膜堆叠技术，做为各类型光学薄膜设计之用，才能达到事先预期后评估的光学特性。比方说：抗反射镜、高反射镜、分光镜、截止滤光镜、带通滤光镜、带止滤光镜等；而在电脑分析软、硬体发展健全的今日，不仅使光学薄膜在设计上变得更为便捷，且光学薄膜技术研究发展也将更为快速。 就目前设计端而言，若以合理特性范围来考量，光学薄膜製作门槛已经降低不少，技术困难点也很少出现，通常只要在合理要求范围之内，设计者不难发出适用的光学多层膜结构。不过，光学薄膜最主要关键问题，在於薄膜镀膜工艺技术的改善？这关係到要如何精準地掌控每一层薄膜厚度与折射率，才能获得预期光学性质和机械特性，甚至在製程量產化及成本降低都有其助益。另外，包括：薄膜材料开发（包括：材料测试、化学纯度、材料创新、材料型式）、先进镀膜技术开发（包括：真空镀膜机、监控技术）及薄膜的量测分析（膜层设计、厚度误差分析技巧）等，都是光学薄膜工程上所要面对到的首要课题。 不过，在光学薄膜技术应用上，由於技术本身被归纳为广泛应用性质，不容易以某一或单一產品作为载具并加以区分；因此，在光学薄膜產品技术，最终应用则是在眾多光学元件上，若以光学元件各个相关应用市场来探究，更可看出主要附加价值与相关性。 光学薄膜技术在显示器產业中的应用 对於显示器画面尺寸及影像品质及辐射量多寡的要求日渐严苛，过去显示器尺寸也从14吋、20吋、29吋、32吋，甚至更大尺寸，也从CRT萤幕发展到LCD萤幕或投影萤幕。因为超过40吋CRT显示器动輒超过100公斤、厚度也超过35吋；因此，在一般CRT显示器生產过程中，40吋以上就是一个技术瓶颈。目前要打破尺寸瓶颈技术，就是利用投影技术来达成，藉用光学技术放大显示器尺寸，使其机身厚度变薄，体积变得更为轻盈。 ▲对於投影机產业而言，必须快速对应到灯源进步程度，以及更高亮度、对比度、体积更小、重量更轻…等要求。 揭开投影机显示技术中重要光学关键零组件，就像是光学引擎、光阀、偏光转换器等开发技术，对投影显示技术中的影像品质有著关键性影响。举例来说，在光学引擎的偏振分光稜镜便是光学引擎中，不可或缺的光学元件，其可见光波要求在420#8764;680nm范围（入射角范围约30°之内），才能大幅度地分开p偏振光及s偏振光，并维持p偏振光穿透率Tp＞90％以上及消光比达到Tp/Ts＞500以上，这是因为消光比越高及Tp穿透率也就越高，影像对比度才会更好，色彩一致性越高，获得较高的光能利用率。 在光学引擎中要用到大量偏振、分光及滤光元件，这些都需要仰赖光学薄膜、镀膜技术来实现，不过这些元件镀膜技术要求层级很高，导致生產困难度加大。一般来说，目前发展投影机技术，包括：LCD、DLP（MEMS）、LCOS数种发展技术。影像成形技术，则分为穿透式LCD及反射式DLP、LCOS，而在投影机系统中，便需要运用光学薄膜滤光片新的开发技术，藉以达到最佳影像品质。 对於投影机產业而言，为了因应灯源技术，以及更高亮度、对比度、体积更小、重量更轻等要求，对於其中所使用的各式光学元件都必须有相对应解决之道。而为了达到需求，这对光学薄膜技术来说，已不能单纯使用传统的整数膜堆设计来完成，非整数膜堆设计必要时也要能被大量採用。不过，对非整数膜堆技术而言，除了先天上设计的困难性之外，在实际的製镀上也有相当的困难性。另一方面，对於环境测试要求更为严格，在滤光片材料选用则应更为审慎，基板选择上也要考虑到整体滤光片应力行为…等等，这都在先前设计之初就必须被纳入考量。 光学薄膜技术也在奈米技术上有其助力 奈米材料及技术因应科技发展速度