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- 2019-05-04 发布于浙江
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* * rCS=rC1+ rC2+rC3 集电极串联电阻rCS 集成双极晶体管的无源寄生效应 rC2 LE-C E C * * rCS=rC1+ rC2+rC3 集电极串联电阻rCS 集成双极晶体管的无源寄生效应 L W T aW bL rC3 E C * * rCS=rC1+ rC2+rC3 集电极串联电阻rCS 集成双极晶体管的无源寄生效应 rC3 rC2 rC1 E C P+ P+ N+-BL N-epi C N+ P B E N+ * * rB=rB1+ rB2+rB3 基区电阻rB 集成双极晶体管的无源寄生效应 E B rB3 rB2 rB1 发射区 扩散层下的 基区电阻 发射区扩散层 边缘到基极接触孔边缘的 外基区电阻 基极金属 和硅的接触电阻以及 基极接触孔下的基区电阻 * * §2.5 MOSFET的单管结构及工作原理 单极器件:只有一种载流子参与导电 n+ n+ p型硅基板 栅极 绝缘层(SiO2) 半 导 体 基 板 漏极 源极 * * VG=0 VS=0 VD=0 栅极电压为零时,存储在 源漏极中的电子互相隔离 * * VGS0时,沟道出现耗尽区, 至VGS VTH时,沟道反型,形成了连接源漏的通路。 + + + + + + + + VG VD 电流 S VDS较小时,沟道中任何一处电压的栅-沟道电压都大于阈值电压,随着VDS的增大,电场强度
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