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第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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微晶硅薄膜的制备及结构和稳定性研究!
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张晓丹 赵 颖 高艳涛 朱 锋 魏长春 孙 建 耿新华 熊绍珍
（南开大学光电子薄膜器件与技术研究所，天津 ###$%）
（南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室，天津 ###$%）
（南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室，天津 ###$%）
（ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿）
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采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备了不同衬底温度的微晶硅薄膜 利用傅里叶变换红外吸收对
)
制备薄膜进行了结构方面的测试分析 结果表明：随衬底温度的升高，材料中的氢含量总的趋势下降；傅里叶变换
)
红外吸收和二次离子质谱测试结果都显示薄膜中氧含量随衬底温度的升高而增加（在%#%* +,- 量级）；与高衬底温
度相比，低衬底温度制备的材料易于后氧化，这说明低温制备材料的稳定性不好)
关键词：甚高频等离子体增强化学气相沉积，微晶硅薄膜，傅里叶变换红外吸收
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薄膜 实验中电源的激发频率固定为 ，
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%D 引 言 电极间距固定为 D# +,，实验本底真空保持在
- ’ 左右 反应气压和辉光功率固定为
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用于太阳电池的微晶硅薄膜已经成为目前光伏 和 衬底温度变化为 — 在制备
E7 # R ) %$# (# S )
［— ］
领域的研究热点% ( ) 与非晶硅材料相比，对微晶硅 样品时衬底是 型硅
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