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Array制程与检测介绍 上海天马微电子有限公司 Photo Process – Resist Coating 利用特定的溶液与薄膜间所进行的化学反应—湿刻 Etching type Etching type selection PEP 1 Mo/AlNd wet etch PEP 2 SiNx /α-Si/ n+-Si dry etch PEP 3 Mo/Al/Mo;α-Si/ n+-Si wet/dry etch PEP 4 SiNx dry etch PEP 5 ITO wet etch 干刻用气体 反应方程：Cl2+SF6+Si→SiF4↑+SiS2↑+其他 Cl2：Cl元素的供给源，刻蚀a-Si的主要气体。 SF6：F元素的供给源，用来与a-Si发生反应，提高刻蚀速率。 湿刻 M1：Mo/AlNd M2：Mo/Al/Mo ITO 草酸（H2C2O4） Etching mode a-Si的刻蚀 反应方程：SF6+He＋SiN→ SiF4↑+SiS2↑ +其他 SF6：F元素的供给源。 He：使等离子体均一化 2.SiN的刻蚀 3.PR灰化（Ashing） 反应方程：PR+O2→ O2：利用等离子体方法去除PR O2：有利于形成Taper角 HNO3+CH3COOH +H3PO4 Spray喷淋 Spray+Dip Dip 浸入 Good taper shape Faster Etching rate Step 1：Spray Step 2：Dip AOI　 ←　2160mm　→ ←　　2400mm　　→ 3GB×44unit=132GB The CCD sensor detect the substrate, Image by the process unit. Defect can be reviewed precisely AOI – Auto optical inspection * * TFT-LCD简介 1.何谓TFT-LCD： TFT─Thin Film Transistor 薄膜晶体管 LCD─Liquid Crystal Display 液晶显示器 2.应用：由于TFT-LCD具有体积小、重量轻、低辐射、低耗电量、全彩化等优点 ，故已广泛使用于各类显示器材上 數碼相機 數碼攝錄影機 汽車導航顯示器 數碼影音光碟機 筆記型電腦 桌上型顯示器 液晶電視 4.5万/月 4季度 1100X1300 第5代 中国上海 上广电-NEC 4.5万/月 1季度 1500X1800 第6代 日本 夏普 1.5万/月 2季度 1500X1800 第6代 日本 5万/月 2季度 1100X1250 第5代 台湾龙潭 友达光电 6万/月 1季度 1100X1250 第5代 韩国龟尾 1季度 1季度 1季度 2005 7万/月 1870X2200 第7代 韩国牙山 2季度 2季度 4季度 2003 投产日期 2007.3季度 2季度 1季度 2季度 4季度 2004 3万/月 730X920 第4.5代 中国上海 上天马 6万/月 1100X1250 第5代 中国北京 京东方 3.5万/月 1100X1250 第5代 中国台湾 群创光电 6万/月 1100X1300 第5代 台湾桃园 广辉电子 6万/月 1200X1300 第5代 台湾台南 瀚宇彩晶 7万/月 730X920 第4.5代 中国台湾 中华映管 6万/月 1100X1300 第5代 台湾台南 奇美电子 7万/月 1100X1300 第5代 台湾龙潭 10万/月 1100X1300 第5代 韩国天安 10万/月 4季度 1100X1250 第5代 韩国天安 三星电子 9万/月 1500X1850 第6代 韩国龟尾 6万/月 1季度 1000X1200 第5代 韩国龟尾 LG.Philips LCD 设计产能 2002 尺寸 地区 厂商 解析度:顯示器上水平方向、垂直方向畫素(pixel)之數目 Cell工程 Module工程 [信号基板］ [驱动IC] [ＬＣＤ Panel