铜在磷酸溶液中的电化学抛光研究.pdfVIP

摇 第42卷摇 摇 第3 期摇 摇 2013 年6 月 表面技术 摇 摇 摇 Vol.42摇 No.3摇 Jun.2013 SURFACE TECHNOLOGY 摇摇摇摇 1 藡蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥藡蕥蕥 研究与探索 藡蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥蕥 藡 铜在磷酸溶液中的电化学抛光研究 黎德育,夏国锋,郑振,王紫玉,田栋,王晨,翟文杰,李宁 (哈尔滨工业大学,哈尔滨 150001) 摇 摇 [摘摇 要]摇 通过阳极极化和电化学阻抗谱测试,研究了铜在磷酸溶液中进行电化学抛光的电化学行为。 研 究发现:随着磷酸浓度的增加,铜在0.2,0.4,0.6,0.8 V 四个电位下电化学抛光后的粗糙度都呈现先减小、后增 大的趋势,在磷酸质量分数为55%时达最低值;EIS 图谱拟合的R 值的变化反映了磷酸盐粘膜层电阻和铜表面s 氧化膜电阻的变化,此外,随着磷酸浓度的增加,EIS 中第一个容抗半圆的弛豫时间延长,铜的溶解反应速度加快。