酞菁铜溶解性研究及其电沉积薄膜的制备.pdfVIP

29 2 Vo l. 29 N o. 2 20 11 3 Im ag ing Science and Photochem istr y M ar. , 20 11 研究论文 钱凌峰, 张 佳, 薛敏钊, 朱园园, 张 青, 刘燕刚 ( , 200240) 通过测定酞菁铜( CuP c) 在4 种不同的有机溶剂中的紫外可见光吸 收光谱, 研究了不同溶剂以及加 不同量的三氟乙酸( T FA A ) 对酞菁铜溶解性 和质子化的影响. 以溶解性研究为基础, 探讨了在电化学沉积法制备酞菁铜薄 膜时不同工艺条件对其形貌的影响. 实验结果表明 加 T F A A 后, 酞菁铜在硝 基甲烷和氯仿中溶解良好, 而且在氯仿中更容易质子化; 使用扫描电镜( SEM ) 表征, 结果表明T FA A 及酞菁铜摩尔含量对薄膜制备的影响最为明显. 酞菁铜; 三氟乙酸; 电沉积