铝合金微弧氧化工艺分析-材料加工工程专业毕业论文.docxVIP

武汉理丁=大学研究生硕J：举位论文摘 武汉理丁=大学研究生硕J：举位论文 摘 要 铝及其余金在工业上的应用越来越广泛，但铝及其合金的表 露磴度祗，辩|癌撰後戆差，辩鑫纯锈溶滚窝笼税酸簿溶液斡辩瘸 蚀蚀差，制约了铝仑金的应用。可以通过表两涂装、热喷涂、气 摺沉积、电镀、化学转化膜、电化学氧化等袭西处理方法对铝会 金表面进行处理，褥高铝合龛表面性能，其中较常用的是电化学 氧化方法中的阳极氯化工艺。阳极飘化工艺基本原理是，将铝或 锈会金在碱瞧或酸靛邀织滚中{睾为黧掇进嚣邀位学襞纯，获褥具 有良好机械性能及耐腐蚀性能的氧化膜。氧化膜主器由无定形氧 化物组成。 微弧氧诧工琶又称为搬等离予钵氧稼工艺或鬻缀灾花流较工 艺，是在阳极氧化工艺基础上发展而来的新兴表面处理工蕊。这 是～秘在较会金表瑟通过微镣离子体放电，进行复杂的电化学、 等离子化学和热仡举过程原位生长戴纯物陶瓷膜层的新工琶，微 弧氯化工艺生成的陶瓷氧化膜厚度可达20¨300 m。显微硬度最 高掰达HV2000辍一毫，辍大提褰了镪会金豹疰瘸范溺。 本文通过一系列以交流电为电源的铝含会微弧氧化工艺实 验，研究微弧氧化过程中陶瓷氧化膜层的生长规律，不同电解质 缢成和浓凄辩陶瓷裁仡簇熏长蠡萼影喻，鞋及微弧氧纯过程审毫辍 问电压、试样表面电流密殿及微弧瓴化时间等工艺参数对陶瓷氧 化貘生长豹影响。采用扫撰电镜(SEM)及x射线辑射握结构分 析(xRD)对陶瓷筑化膜微观形貌及膜层缩构进行分析，对陶瓷 氧化膜的厚度、显微硬度、耐热冲出性、耐腐蚀性及抗外力冲击 憝力进行了溺试。 SEM分析表明，陶瓷甄化膜层由疏松朦和致密层构成，敦密 层约为整个膜层厚度的2／3。XRD分析表明陶瓷氧化膜中台有 y-A1203稻d-A1203酷稆成分，其中d—A1203褶随氧纯辩闻瓒多。 试样经微弧氧化处理后，再进行500℃×60min的热处理，可以使 建瓷氧纯貘中菲鑫穗囱7一A120s蜩转变。 陶瓷氧化膜性能测试表明氧化膜其有良好的抗热冲击饿，经 过10次600C一25℃激热一激冷冲击，氧化膜表面无裂纹：氧化膜 舔藤镀毪氇缀努，在20℃匏10％NaCI溶液，10％HCl滚液， 10％NaOH溶液中浚蚀72小时，试样在分析天平测量范围内无失 重。陶瓷氧髓：膜上的孔隙降低表露防腐蚀熊力，对孔隙封闭处理 后W大幅稳离腐镶防护能力。其抗矫力冲戎驻力毽较强，餐锅台 金旗体的机械性能制约了氧化膜的抗外力冲击能力。陶瓷飘化膜 豹照微硬瘦达HVl800。 武汉理工人学研究生碳I?学位论文实验表明，陶瓷氧化膜层的生长过程可分为六个步骤：1．表面 武汉理工人学研究生碳I?学位论文 实验表明，陶瓷氧化膜层的生长过程可分为六个步骤：1．表面 阻挡层的生成，即微弧氧化初始阶段试样表面会很快形成～层致 密的无定形氧化膜；2．阻挡层的电击穿。升高电极间电压，使阻挡 层电击穿，产生火花放电：3．无定型氧化膜层的生长。电极间电压 及试样表面电流密度较低时，火花放电较弱，陶瓷氧化物形成较 少，主要是无定形氧化膜的生长；4．局部陶瓷氧化膜层的形成。即 无定形氧化膜在微等离子体放电产生的微区高温高压作用下瞬问 融化，又在电解液作用下迅速凝固，晶化为含有Y．A1203和Q．A1203 晶相成分的晶型陶瓷氧化物颗粒，陶瓷氧化物颗粒不断长大，与 邻近的陶瓷氧化物颗粒互相烧溶连接，形成局部陶瓷氧化膜；5． 陶瓷氧化膜的电击。即电极间电压及试样表面电流密度增高，使 陶瓷氧化膜电击穿；6．陶瓷氧化膜层的生长，陶瓷氧化膜增厚，等 离子体放电发生在氧化膜的放电孔隙中，熔融氧化物从孔隙喷出 瞬间凝固，陶瓷氧化膜不断生长。 实验表明，电解液的性质是微弧氧化工艺中关键的因素。电 解液中电解质的组成和浓度对微弧氧化的电参数有直接影响。不 同电解质组成的电解液，微弧氧化的起弧电压不同，对试样表面 电流密度的影响也不同。电解液浓度升高，起弧电压下降，电极 表面电流密度上升。 实验表明，电解液的温度、电极表面积以及电解液在电解槽 中的截面积都对微弧氧化过程电参数有影响。电解液温度上升， 试样表面电流密度增大，电解液对氧化膜的溶解速度也增大，F乜 解液温度升高总的效果是对氧化膜的生长和膜层的厚度与性能造 成不利影响；电极表面积增大会使试样表面电流密度减小，起弧 电压升高；电解液在电解槽中的截面积增大相对提高了电解液中 的传质效率，使试样表面电流密度增大。试样的外形对氧化膜膜 层的均匀性有影响，圆柱形试样上氧化膜的均匀性比方形试样好。 实验表明，氧化膜的溶解速度对陶瓷氧化膜的生长有重要影 响。微弧氧化陶瓷膜的形成过程是：氧化膜的生成与溶解交替发 生，生成速率大于溶解速率的过程。在一定条件下，适当增大膜 层的溶解速率可以增快膜层的生长。不同