几种膜系特点及应用研究毕业论文.doc

武汉职业技术学院毕业论文 PAGE I PAGE XIX 几种膜系特点及应用研究 摘要 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。  真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。 近几年来随着国内高世代液晶面板的兴起，对于上游关键材料如光学膜的需求也大幅增加。光学膜在液晶面板中应用量较大，约占到液晶面板成本的10%左右，以一条8代线总投资200亿元计算，其光学膜的需求就达到20亿元。随着中国电子工业的不断发展，越来越多的世界电子巨头在中国投资设厂，随着世界电子生产基地向中国的转移，目前中国已经成为全球最大的笔记本电脑和手机生产基地，而液晶电视、液晶显示器以及其它电子类产品的产量也位居世界前列。在此带动下，中国扩散膜市场空前发展，目前已占全球市场的近50%。 关键词：薄膜；气相生成法；真空蒸发；溅射镀膜；离子镀；真空系统 目 录 摘要…………………………………………………………………………………II 绪论………………………………………………………………………………1 光学镀膜技术的发展简介…………………………………………………1 基础理论…………………………………………………………………………2 光学镀膜的特点………………………………………………………2 热蒸发原理……………………………………………………………6 电阻蒸发源蒸镀法……………………………………………………6 电子束蒸发源蒸镀法…………………………………………………7 电子束蒸发源的特点为………………………………………………7 高频感应蒸发源的特点………………………………………………8 激光束蒸发源蒸镀法…………………………………………………8 离子镀的原理…………………………………………………………8 多弧离子镀……………………………………………………………9 多弧离子镀的应用……………………………………………………10 直流溅射、射频溅射、脉冲溅射和中频溅射………………………10 自溅射…………………………………………………………………12 溅射……………………………………………………………………13 磁控溅射法制模………………………………………………………14 非平衡磁控溅射（UBMS）……………………………………………15 脉冲磁控溅射技术（PMS）……………………………………………16 新型磁控溅射镀膜工艺………………………………………………16 掺锡氧化铟（ITO)………………………………………………………………17 研究与应用现状存在的问题…………………………………………17 溶胶2凝胶法…………………………………………………………18 ITO 薄膜表面特性……………………………………………………19 ITO薄膜的发展……………………………………………………… 22 IOT薄膜应用………………………………………………………… 23 开发先进的工艺技术…………………………………………………23 光学薄膜……………………………………………………………………… 24 ITO薄膜的应用……………………………………………………………24 用于平面显示………………………………………………………………24 用于交通工具风挡…………………………………………………………25 用于太阳能方面……………………………………………………………25 真空紫外薄膜………………………………………………………………25 高激光阈值薄膜……………………………………………………………26 增光膜、扩散膜……………………………………………………………27 真空镀膜的发展趋势………………………………………………………29 结论……………………………………………………………………………30 心得体会………………………………………………