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第一章习题
1 .设晶格常数为 a 的一维晶格,导带极小值附近能量 Ec(k) 和价带极大值附近
能量 EV(k) 分别为:
2
k
2
2
(k k1 )
2
2
2
2
2
E c= h
h
, EV (k)
h k
1
3h k
3m0
m0
6m0
m0
m0 为电子惯性质量,
k1
, a
0.314nm。试求:
a
1)禁带宽度 ;
2) 导带底电子有效质量 ;
3)价带顶电子有效质量 ;
(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)
导带:
由 2 2k 2 2 (k k1 )
0
3m0
m0
得: k
3 k1
4
又因为:
d 2 Ec
2 2
2 2
8
2
dk 2
0
3m0
m0
3m0
所以:在 k
3 k处, Ec取极小值
4
价带:
dEV
6 2 k
0得 k
0
dk
m0
又因为 d 2 EV
6 2
0,所以 k
0处, EV 取极大值
dk 2
m0
因此: Eg EC
3
EV (0)
2 k12
( k1 )
0.64eV
4
12m0
2
3 m0
(2)mnC*
d 2 EC
8
dk 2
k 3k1
4
2
m0
(3)mnV*
d 2 EV
6
dk 2
k
01
(4)准动量的定义: p
k
所以: p (
k)
3
( k ) k 0
3 k1 0 7.95 10 25 N / s
k
4
k1
4
晶格常数为 0.25nm 的一维晶格,当外加 102V/m, 107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据: f
qE
h
k
得
t
k
t
qE
(0
)
t1
a
8.27
10
8
s
10 19
10 2
1.6
(0
)
t2
a
8.27
10
13
s
10 19
107
1.6
补充题 1
分别计算 Si(100),(110),( 111)面每平方厘米内的原子个数,即原子面密度
(提示:先画出各晶面内原子的位置和分布图)
Si 在( 100),(110)和( 111)面上的原子分布如图 1 所示:
(a) (100) 晶面 ( b) (110)晶面
c) (111)晶面
1
1
4
2
2
(
):
4
14
2
6.78
10
atom / cm
100
a 2
a 2
( 5.43 10 8 ) 2
2
1
1
4
2
4
(
):
4
2
14
2
9.59
10
atom / cm
110
2a
a
2a 2
4
1
1
2
2
4
(
):
4
2
10
14
atom / cm
2
111
7.83
3 a
2a
3a 2
2
补充题 2
2
7
1
一维晶体的电子能带可写为 E
(
k )
ma2 (
cos ka
cos2ka)
,
8
8
式中 a 为 晶格常数,试求
(1)布里渊区边界;
(2)能带宽度;
(3)电子在波矢 k 状态时的速度;
*
(4)能带底部电子的有效质量 mn ;
*
(5)能带顶部空穴的有效质量 mp
解:( 1)由 dE (k ) 0 得 k n
dk a
n=0, 1, 2?)
进一步分析 k (2n 1) ,E( k)有极大值,
a
E( k)
2
2
MAX
ma
2
2n 时, E( k)有极小值
a
所以布里渊区边界为 k
(2n
1)
a
(2) 能带宽度为 E( k ) MAX
E(k) MIN
2
2
ma
2
(3 )电子在波矢 k 状态的速度 v
1 dE
(sin ka
1 sin 2ka)
dk
ma
4
(4)电子的有效质量
mn*
2
m
d 2 E
(cos ka
1
dk 2
cos 2ka)
2
能带底部
k
2n
所以 mn*
2m
a
(5) 能带顶部
(2n
1)
,
k
a
且 m*p
mn*
,
所以能带顶部空穴的有效质量
m*p
2m
3
半导体物理第 2 章习题
实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?
答:(1)理想半导体: 假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,
实际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
2)理想半导体是纯净不含杂质的,实际半导体含有若干杂质。
3)理想半导体的晶格结构是完整的,实际半导体中存在点缺陷,线缺陷和面缺陷等。
2. 以 As 掺入 Ge中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和 n 型半导
体。
As 有 5 个价电子,其中的四个价电子与周围的四个 Ge原子形成共价键,还剩余一个电子, 同时 As 原子所在处也多余一个正电荷, 称为正离子中心, 所以,一个 As 原子取代一个 Ge原子,其效果是形成一个正电中心和一个多余的电子 .
多余的电子束缚在正
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