太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺-强激光与粒子束.PDF

第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ， ２６ ５ Ｖｏｌ．２６ Ｎｏ．５ 　 　 年 月 ， ２０１４ ５ ＨＩＧＨ ＰＯＷＥＲＬＡＳＥＲＡＮＤＰＡＲＴＩＣＬＥＢＥＡＭＳ Ｍａ ２０１４ 　 　 ｙ 太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺 ，， ， ， ， ， １２３ １２ １２ １２ １２ 单云冲 ， 阮久福 ， 杨 军 ， 邓光晟 ， 吕国强 　 　 　 　 　 （ 特种显示技术教育部重点实验室（合肥工业大学），合肥 ； 合肥工业大学 光电技术研究院，合肥 ； １． ２３０００９２． ２３０００９ ３．合肥工业大学 仪器科学与光电工程学院，合肥 ２３０００９） 摘 要： 介绍了制备某太赫兹频率真空辐射光栅的超厚胶光刻工艺，针对工艺中的难点（大厚度和高深 　　 　 　 宽比）展开了深入分析。实验分析了基片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影等工艺过程对光刻的影响，通过优 化工艺参数，解决了胶膜脱落、开裂，不同胶层间的结合，光栅沟槽间的光刻胶残留等问题，成功制备了厚度为 、深宽比为 的侧壁陡直、表面平整的双光栅结构胶膜。 ７００ ｍ １４ μ 关键词： 双光栅； 太赫兹； 光刻； 超厚胶； 深宽比 　　 　 　 　 　 　 中图分类号： ； 文献标志码： ： ／ ＴＱ３２３ ＴＮ１２９ Ａ 犱狅犻１０．１１８８４ＨＰＬＰＢ２０１４２６．０５３１０２ 　　 　 　 　　　　 　 　　 太赫兹源因其在生物物理学、光谱学、材料学等学科及通信、安检、雷达等领域的广泛应用前景，受到极大 　　 ［］ １ 的关注 。在所有类型的辐射源中，基于光栅结构的真空太赫兹源因其结构紧凑、高效、高功率和可调谐特性 ［ ］ ２３ 而极具发展潜力 。作为该类太赫兹源关键部件的金属光栅，可达 μｍ量级，传统的机械加工方法和普通的 ［］ ４ 微细加工方法很难达到如此高的精度。微机电（ ）技术在高频真空电子器件加工上的成功应用 ，为太