添加剂成膜机理研究.pptxVIP

Smoothway Confidential;SEI膜在高定向热解石墨HOPG的形成;SEI膜在高定向热解石墨HOPG的形成;1 M LiClO4 / PC + 3 wt % 添加剂充放电特性;1 M LiClO4 / PC + 3 wt % 添加剂首次沉积层表面状态及厚度;添加剂在PC体系中的还原电位;锂盐对电化学性能及表面膜的影响;石墨基面对SEI膜的组成的影响;研究对象：AFM电池和HOPG;主要内容;AFM原子力显微镜对HOPG侧面观测;接触模式AFM扫描去掉的表面膜;剩余表面层作为SEI膜的作用;添加剂对于表面成膜的作用;AFM对HOPG侧面观测（加入VC）;刮去沉积层加入EC基2%的VC;刮去沉积层加入PC基2%的vc;Vc添加剂对于表面SEI膜的作用;沉积层厚度对比;;锂盐对表面结晶度的影响;AFM在3V对HOPG的观测;AFM对石墨负极首次原位扫描;AFM对石墨负极首次原位扫描;AFM对不同阶段电压下石墨的观测;精细粒子的组成（XPS表征）;精细粒子的组成（ATR-FTIR表征）;锂盐在负极成膜作用小结;总结