镭雕工艺简介.pptVIP

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昆山金利商标有限公司 镭射激光雕刻工艺简介 四、镭射激光雕刻机的调试 镭射激光雕刻机雕刻效果主要从以下几个方面进行调试: 电流强度 焦距 参数 电流强度对雕刻效果的影响 电流强度大,雕刻深度深、字体线条粗; 电流强度小,雕刻深度浅、字体线条细; 雕刻金属材料时,电流强度大,一般在10以上; 雕刻非金属材料时,电流强度小,一般在9.5-10左右,尢其是雕刻透光按键时电流强度一般都在9.8左右。 电流强度对雕刻非金属材料有很大影响,电流太大会破坏产品表层如:烧焦、雕刻面起泡等;太小图案会不清晰、无深度。 焦距对雕刻效果的影响 焦距的定义:激光发光镜头与被雕刻面之间的垂直距离,一般为17.8-18cm之间。 被雕刻面离焦点近,激光能量大、雕刻深度深、字体线条细; 被雕刻面离焦点远,激光能量小、雕刻深度浅,字体线条粗; 雕刻金属材料时,一般离焦点要近 雕刻非金属材料时,一般可偏离焦点,尢其是雕刻透光按键时,一定要偏离焦点3-5mm 。 参数的调整对雕刻效果的影响 下图为激光雕刻软件中参数调整对话框,以下将重点描述参数的意义、作用及调整其相应的参数对雕刻效果的影响。 有效矢量步长 太大:雕刻出的笔画不够精细、 稀疏、无深度、雕刻速度度快; 太小:雕刻出的笔画精细、致密、 有深度、雕刻速度慢; 默认值:0.01mm 使用范围:0.001-0.018mm 备注:调整该参数可以明显改变 雕刻的速度、精度和深度。 有效矢量步间延时 太大:雕刻出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢; 太小:雕刻出的笔画不够精细、稀疏、 无深度、雕刻速度快; 默认值:20us 建议值:8-40us跳转延时 跳转延时 太大:振镜已充分转到,并停滞一段时间后才处理下一个笔画,增加雕刻时间; 太小:振镜还未充分转到,PC就开始处理下一个笔画,笔画开始的地方会出现散点; 默认值:2000us 使用范围:300-2000us 激光开延时 太大:振镜往前走得太多激光才打开,笔画的开始会不够长; 太小:振镜往前走得太少激光才打开,笔画开始点会出现重点; 默认值:2 step 使用范围:1-15 step 备注:调整该参数可以减小首发重点问题。 激光关延时 太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后激光才关闭,笔画末尾 点会形成重点,增加打标时间。 太小:振镜还示充分转到,激光就关闭,笔画的末尾不够 默认值:1000us 使用范围:200-1000us 备注:高速该参数可以减小笔画末尾重点的问题。 拐弯延时: 太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后PC才处理 画的下一线段,拐弯点会形成重点, 增加打标时间; 太小:振镜还未充分椟到,PC就开 始处理笔画的下一线段,拐弯的地 方会出现圆弧; 默认值:5us 使用范围:3-6us 备注:该参数一般不作调整。 空矢量步长: 太大:空笔画处理时间短,雕刻时 间减少,但会出现笔画相连的情况; 太小:空笔画处理时间长,雕刻时 间增加; 默认值:0.03mm 使用范围:0.03-0.08mm 空矢量步间延时: 五、效果调试方法 提高精度 有效矢量步长减小 有效矢量步间延时增加 Q频率增加 增加深度 有效矢量步长减小 有效矢量步间延时增加 Q频率减小 电流增加 提高雕刻速度 有效矢量步长增加 4. 激光关延时减小 有效矢量步间延时减小 5. 空矢量步长增加 跳转延时减小 6. 空矢量步间延时减小 注:一个参数调整有可能影响多种效果,所以为了得到较好的效果,一般要调整多个参数。 全文完 * * BRIGHT KEB EVER 一、镭射激光雕刻机的种类及适用领域 镭射激光雕刻机按其发光的原理可分为CO2激光雕刻机和半导体激光雕刻机。 CO2激光雕刻机广泛适用于木器、五金、塑胶、通讯等行业;半导体激光雕刻机广泛适用于电子、电脑、五金、通讯等行业。 我司激光雕刻机为半导体激光雕刻机,其性能指数 如下: 最大输出功率为50KW,最大雕刻范围为100*100mm,最大雕刻深度为0.3mm,重复精度为0.001mm,雕刻速度3600mm/秒 二、硬件介绍 镭射激光雕刻机硬件包括计算机硬件和激光发光器硬件 计算机硬件包含电源、显示器、主板、机箱、硬盘、CPU、内存条、软驱等。 激光发光器硬件包含主控箱、冷却水系统、Q驱动器、振镜驱动器、电流控制器、激光聚光腔、镜头、作业平台、脚踏开关等。 三、软件介绍 镭射激光雕刻机软件包括计算机操作系统(Windows98和其它版本)和雕刻软件Han′s laser2000。该雕刻软件可支持的文件格式有dwg、cdr等。

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