电感耦合等离子体（ICP）深刻蚀的模型与模拟-中国科技论文在线.PDFVIP

中国科技论文在线 第! 卷# 第$% 期 仪 器 仪 表 学 报 9.2: ! ;.: $% !%% 年$% 月 ’()*+,+ -./0*12 .3 45)+*6)3)5 7*,60/8+*6 56: !%% 电感耦合等离子体（!# ）深刻蚀的模型与模拟! 张# 鉴# 黄庆安# 李伟华 （东南大学==4 教育部重点实验室# 南京# !$%%? ） 摘要# 为对交替复合深刻蚀过程进行工艺仿真，本文利用鞘层近似模型，以离子辅助刻蚀和直接粒子刻蚀的组合来实现交替复 合深刻蚀过程中的刻蚀步骤，辅以各向同性钝化过程，对电感耦合等离子体深刻蚀（硅片）进行了建模。本文采用单一的二维 廓线@ 线算法@ 模型实现对刻蚀材料的区分，进而实现了对电感耦合等离子体深刻蚀的二维模拟和三维带状显示。其优点是相 比元胞及混合模型算法统