新型可溶性亚酞菁旋涂薄膜的光学常数.pdfVIP

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2019-07-06 发布于天津
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新型可溶性亚酞菁旋涂薄膜的光学常数.pdf

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第卷第期中国激光， ( ’ W= , .( 0= , ’ 年月， !! ’ OPQ0MRM S+TU0.V +6 V.RMUR X3ECA !! 文章编号：（） !#$%!# !! !’%!’(%!) 新型可溶性亚酞菁旋涂薄膜的光学常数王阳，干福熹（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 !*$!! ）提要通过旋涂法在单晶硅片上制备了一种新型可溶性亚酞菁（三新戊氧基溴硼亚酞菁）薄膜。利用全自动椭圆偏振光谱仪研究了该薄膜的椭偏光谱，测量了其复折射率、复介电函数和吸收系数，并对其吸收谱的成因作了分析。关键词可溶性亚酞菁染料，旋涂薄膜，椭圆偏振光谱，复折射率，复介电函数，吸收系数中图分类号 + )$) ,) - * 文献标识码 . !#$%’ ()*+#*#+ ), -./ 0)’12’. 0123#3’)%4*$*. 0$*5%)#.6 73$* 8$’9 ， /.01 2345 1.0 67%89 （，，） !#$%# ’$())*)+ ,- ./ )0( #$1 2$+ 3+0#$0( 4+ 5$+(+ 60#1+78 ,- !0+$0+( !#$%# !*$!! （） :2+#;%# . 4:; =7?: 7?@ABA3=CD3494: ?E=F=?=E=4 BE94:=@:4B=8D%7?@ABA3=CD3494: BA94 G9F ;3 @E:@3E:H ?D @94%C=3B945 =4 3 945:%CEDB3 99C=4 7?BE3B: , IA: :9@=F:BE9C @:CBE3 =G BA9 G9F ;:E: 94J:B953B:H ;9BA 34 9F@E=J:H 37B=F3B9C :9@=F:B:E , IA: C=F@:8 E:GE3CB9J: 94H:8，H9::CBE9C G74CB9=4 34H 3?=E@B9=4 C=:GG9C9:4B =G BA9 G9F 94 BA: ’!! K $!! 4F ;3J::45BA E:59=4 ;:E: 59J:4 , IA: @:CBE3 ;:E: :8@394:H 34H H9C7:H 3 ;: , .4 /);6+ =7?: 7?@ABA3=CD3494: C=F@=74H，@94%C=3B:H BA94 G9F，:9@=F:BE9C @:CBE7F，C=F@:8 E:GE3CB9J: 94H:8，， H9::CBE9C G74CB9=4 3?=E@B9=4 C=:GG9C9:4B * 引言于某些酞菁薄膜的光存储性能，可以在更低的记录［］ ’