曝光机对位原理.ppt

Alignment Introduction 報告人:Y71莊子賢 Logic 靶點辨識 對位 靶點辨識 靶點判別 判斷何者為靶點 定參考點 決定何者為對位運算座標 廠內ORC系統 Aligner: AN100(二值化) : CM EXM-1350(C10) AN300(二值化) : CM EXM-1350(A10,C10) EXM-2000(D20) AN500(多值化) : CM EXM-2000(D20) CT EXM-1350(A10) EXM-2000(A20) ORC對位器差異 AN300 於target training時記憶該靶點之面積 AN500 於target training時以該把點之輪廓與真圓比對(score),並決定此真圓之scale 多值化與二值化 Other search system(1) 靶點中心對位方式 圓上取點計算中心 若有超出範圍者則忽略 Other search system(2) 靶點靠邊對位方式 對位流程 1.Alignment 2.Judgement Alignment 1.CCD window座標轉換 2.計算Mask Panel targets position 3.Get rotation angle 4.Get DX DY CCD window座標轉換 將Camera pixel得到之CCD window內座標轉換為stage coordinate 計算Mask Panel targets position 1st ) Get the absolute position of Mask mark. Camera1 : (MX1, MY1) = (CX1, CY1) Camera2 : (MX2, MY2) = (CX2, CY2) 2nd ) Get the absolute position of Panel mark. Camera1 : (PX1, PY1) = (CX1 + X1, CY1 + Y1) Camera2 : (PX2, PY2) = (CX2 + X2, CY2 + Y2) Get rotation angle Get DX DY Action of alignment 4 targets alignment Pitch Error Judgement Limit Mode 1.XY? 2.X+?X, Y+?Y 3.Xn, Yn 4.Xn, Yn circle XY? X+?X, Y+?Y Xn, Yn Align完成後, Judge X1,Y1,X2,Y2 將其與JE值比較 Xn, Yn circle Align完成後, Judge X1,Y1,X2,Y2 將其與JE值比較 Comment PE僅針對基板與A/W size差異進行初步篩選 曝光品質則由JE進行最後把關 不同之judge mode僅做不同方式之判斷曝光與否,不影響對位結果 * Equipment Technology Depart. COMPEQ COMPEQ Confidential AN300 AN500 判別時比對面積大小 以重心座標當作對位參考點 判別時亦以靶點之輪廓與該真圓之靶點比對,而scale需符合範圍 以scale符合之真圓圓心座標當作對位參考點 Dq adjust DX DY adjust 4靶點之對位方式乃將兩組雙靶點進行平均 Pitch Error即為一般所謂之PE值 PE值乃指A/W與基板之大小差異 PE=(P1P2-M1M2)/2 PE PE Align完成後, Judge DX,DY,D? 將其與設定之JE值比較 DY DX D? DY DX D? 考量台面旋轉中心不一定為計算中心,於對位計算最後再加上旋轉?後對DX,DY之影響 Judge DX,DY,D? 將其與設定之JE值比較 * * * *