企业知识 产权法律保护实务的讲座.ppt

二、知识产权概述 （五）我国知识产权法律保护的现状 我国法律规定的保护范围和水平基本与知识产权国际条约规定的范围和水平相当，并且将会受到《与贸易有关的知识产权协议》等国际公约的积极影响，得到进一步的发展。 三、新型知识产权的权利类型 （一）新型知识产权概述 新型知识产权的概念 新型知识产权产生的原因： 1、经济、社会、科技的发展 2、传统知识产权的叠加 3、传统知识产权的延伸 4、传统知识产权存在空白点 三、新型知识产权的权利类型 （二）集成电路布图设计权 1.概念：附着于各种载体上的电子元件和连接这些元件的连线的有关布局设计 2.立法保护（专利法、著作权法不能给集成电路不图设计有效的保护） 集成电路布图设计实质上是一种图形设计，但并非是工业品外观设计，不适用专利法保护 集成电路布图设计是一种三维配置形态的图形设计，但不属于著作权法意义上的图形作品或造型艺术作品 各国大抵采取单行立法，确认布图设计专有权，即给予其他知识产权的保护。 三、新型知识产权的权利类型 （二）集成电路布图设计权 3.集成电路布图设计专有权： （1）专有权的取得： 主体资格：中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。 客体条件：合格的客体必须是具有独创性的布图设计。 （2）方式与程序： 方式：自然取得、登记取得、使用与登记取得。（我国实行登记制度） 程序（我国）：申请、初审、登记并公告、对驳回申请的复审、登记的撤销。 （3）专有权行使： 复制权：即专有权人有权通过光学的、电子学的方式或其他方式来复制其受保护的布图设计。 商业利用权：即专有权人享有将受保护的布图设计以及含有该布图设计的集成电路或含有此种集成电路的产品进行商业利用的权利。 （4）专有权的保护： 布图设计保护期为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准，但无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《集成电路布图设计保护条例》保护。 三、新型知识产权的权利类型 （二）集成电路布图设计权 4.集成电路布图设计权的限制 反向工程；合理利用；权利穷竭；善意买主；强制许可。 《集成电路布图设计保护条例》第二十三条第三款还规定了一种特殊的限制制度，即对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬。 三、新型知识产权的权利类型 5.矽威公司诉源之峰公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案 原告华润矽威科技（上海）有限公司（简称矽威公司）享有PT4115集成电路布图设计专有权。被告南京源之峰科技有限公司（简称源之峰公司）与华半公司订立协议开发1360集成电路。被告对原告销售的PT4115芯片进行了反向剖析，获取其具体电参数、元器件结构、尺寸和内部构造等数据，形成1360集成电路的布图设计，提供给华半公司，获得10万元设计费。华半公司委托第三方生产1360管芯并优先销售给被告1360管芯67407只，被告将管芯封装后，编码成6808、6807等系列集成电路向市场销售获利50915.06元。 三、新型知识产权的权利类型 矽威公司诉源之峰公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案 相同布图设计的认定 布图设计是集成电路中电子元件与连线的三维配置，集成电路是执行某种电子功能的产品。相同的布图设计应当是执行相同电子功能集成电路的电子元件与连线的三维配置相同。当对以下各种情形比较后均相同时，可以认定布图设计相同：一是比较功能，如果功能不同，则布图设计不同；二是比较性能，如基片的材料、集成规模、元件数量等等；三是比较布局、元件、连线在基片上的分布，包括各层分布及本层分布；四是比较连接状态、元件的连接，元件与连线的连接、输入输出连接等等。 矽威公司诉源之峰公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案 布图设计有不同的表现载体，对比的对象这样确定：一是集成电路之间进行对比，这样最直接；二是图样之间进行对比；三是光刻掩模版之间进行对比；四是其他形式的对比，如包含布图设计全部信息的电子版本之间，在一定条件下也可进行对比；五是交叉对比，如图样与集成电路、光刻掩模版与图样、光刻掩模版与集成电路等。只有双方均采用相同的制造技术、工艺、条件制造集成电路时，除集成电路外的其他对象才可以