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奈米碳管製程
奈米碳管常使用的碳原料有甲烷(CH4)、石墨(Graphite)、乙炔(C2H2)。
製作過程通常加入鐵(Fe)、鈷(Co)、鎳(Ni)…等過渡金屬元素作為觸媒以輔助成長,並可用來降低製程溫度,當通入不同的載流氣體,氮(Ar)、氫(H2)等,會改善所得到奈米碳管的產量、品質和特性,以下為常見的製程奈米碳管之方式:
(1) 電弧放電法 :
電弧放電法是最早發現奈米碳管所使用的方法,適合用來大量生產奈米碳管,但是所製作出來的奈米碳管需要經過純化過程,把非晶質碳、C60、石墨碎片去除,才能得到純度高的奈米碳管,將兩直徑大小不同的石墨棒,當作陽極和陰極,通常陽極直徑比陰極直徑小,為了要得到單壁奈米碳管,可在陽極中的凹槽填入過渡金屬當作觸媒,陰極和腔體用冷水降溫,在兩極間通入10~30V 的電壓,大約100A 的電流(直流或交流都可),真空腔體抽至100 mtorr 後導入氦氣使壓力維持在500torr,陽極和陰極的間隙約為1~3mm,兩極之間會產生電弧,利用電弧所產生的強大熱能,把陽極石墨在高溫之下汽化,陰極將會沉積許多的黑色碳沈積物,利用顯微鏡來觀察,在這之中包含了非晶質碳、奈米碳管、C60、石墨碎片等,之後將其純化去除,如圖一所示。
(2) 雷射汽化法 :
雷射汽化法是在1996 年被證實可以用來製造奈米碳管且有70%-90%高產量的奈米碳管,在石墨靶材中混合過渡金屬,把混合的石墨靶材放置在石英管中,通入鈍氣加熱至1200℃,再以脈衝雷射照射石墨靶材使其蒸發,再通入氬氣作為載流氣體,使蒸發的材料可以跟著載流氣體流動,而在出口利用銅金屬來冷卻、沉積蒸發物,就可以得到黑色碳沉積物,以顯微鏡觀察,可以得到的單壁奈米碳管和其它方法比較,雷射汽化法可以得到大量的單壁 奈米碳管,此方法的缺點為需要非常高的溫度下操作,如圖
(3) 熱分裂化學氣相沉積 :
化學氣相沉積法(CVD)是目前製作單層奈米碳管最有效率的方法,可應用於大表面積的生產或擁有多種產物型態的特質。
將CH4、C2H2、C2H4…等碳氫化合物的氣體,通入高溫的石英管爐中反應, 這些氣體會因高溫而催化分解成碳(奈米顆粒),吸附在矽(Si)基板沉積上金屬薄膜,然後將其用氫氟酸(HF)溶液的浸泡,在成長奈米碳管時,通入氨(NH3)氣體對觸媒薄膜來蝕刻形成的奈米顆粒,才能降低成長奈米碳管的溫度,再通入有機化合物,在高溫下分解有機化合物、經過裂結、沉積過程來合成出奈米碳管,如圖三所示。【6】
圖1 電弧放電法
圖1 電弧放電法【6】
圖
圖二 雷射汽化法【6】
圖三 化學氣相沉積法
圖三 化學氣相沉積法【6】
奈米碳管的特性
奈米碳管因長度單位為奈米級,所以其特性不同於一般認之的碳特性,奈米碳管擁有強度高、密度高、熱傳導高、韌性高、機械性高、質量輕,所以綜合以上的特性,而衍生出許多新奇的應用,雖然目前的研究並未發展成熟,但可想而知奈米碳管將成為未來的新興材料之一。
又因奈米碳管為人工合成的最細管子,以機械性質而言,單壁奈米碳管的強度約為鋼的 10 ~ 100 倍,但重量僅有鋼的六分之一,其比強度〈強度 / 密度〉較鋼高,是質輕且機械強度高的物質,並且奈米碳管的發現可使電子元件縮小、密度提高,而奈米碳管也不會像一般金屬,因高電流而產生熱或更高的阻抗,是十分適用於電子元件之製作。
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