其实倒装晶片之所以被称为“倒装”是相对于传统的金属线键合连接方式(Wire Bonding)与植球后的工艺而言 的。传统的通过金属线键合与基板连接的晶片电气面朝上,而倒装晶片的电气面朝下,相当于将前者翻转过来, 故称其为“倒装晶片”。 目前GaN 基外延衬底材料有两大类:一类是以日本“日亚化学”为代表的蓝宝石;一类是美国 CREE 公司为代表的 SiC 衬底。传统的蓝宝石衬底GaN 芯片结构如图1 所示,电极刚好位于芯片的出光面。在这种结构中,小部分 p-GaN 层和“发光”层被刻蚀,以便与下面的 n-GaN 层形成电接触。光从最上面的 p-GaN 层取出。p-GaN 层有限的电导率要求在p-GaN层表面再沉淀一层电流扩散的金属层。这个电流扩散层由 Ni 和 Au 组成,会吸收部分光,从而降低芯片的出光效率。为了减少发射光的吸收,电流扩展层的厚度应减少到几百纳米。厚度的减少反过来又限制了电流扩散层在 p-GaN层表面均匀和可靠地扩散大电流的能力。因此这种p 型接触结构制约了LED 芯片的工作功率。同时这种结构pn结的热量通过蓝宝石衬底导出去,导热路径较长,由于蓝宝石的热导系数较金属低(为3 5 W / m ·K ),因此,这种结构的 L E D 芯片热阻会较大。此外,这种结构的p电极和引线也会挡住部分光线进入器件封装,所以,这种正装 LED 芯片的器件功率、出光效率
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