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4.6.2 矩形(方形)平膜片的建模 2. 矩形(方形)平膜片的大挠度变形 4.6 膜片的建模 (1) 大挠度变形的位移 求解矩形膜片法向位移方程 4.6.2 矩形(方形)平膜片的建模 2. 矩形(方形)平膜片的大挠度变形 4.6 膜片的建模 (1) 大挠度变形的位移 4.6.2 矩形(方形)平膜片的建模 2. 矩形(方形)平膜片的大挠度变形 4.6 膜片的建模 (2) 有关方膜片的结论 4.6.2 矩形(方形)平膜片的建模 3. 方形平膜片的振动问题 4.6 膜片的建模 压力为零时,方平膜片弯曲振动的基频 4.6.2 矩形(方形)平膜片的建模 4. 方形平膜片的边界结构参数 4.6 膜片的建模 外界作用通过硬质量环对方平膜片的位移场、应力场的影响小到可以忽略不计的程度 4.6.3 波纹膜片的建模 1. 受均布压力的波纹膜片 2. 受集中力的波纹膜片 自学 4.6 膜片的建模 4.6.4 E型圆膜片的建模 1. 基本方程 2. 受集中力的E型圆膜片 3. 受均布压力的E型圆膜片 自学 4.6 膜片的建模 4.6.4 E型圆膜片的建模 1. 基本方程 4.6 膜片的建模 E 形圆膜片的弹性势能 分布力 对膜片做的功为 利用 ,得E型膜片微分方程 建立泛函 4.6.4 E型圆膜片的建模 2. 受集中力的E型圆膜片 4.6 膜片的建模 E 形膜片的硬中心处最大法向位移 最大法向位移与其厚度的比值 E形圆膜片上表面的径向位移为 4.6.4 E型圆膜片的建模 2. 受集中力的E型圆膜片 4.6 膜片的建模 集中力 F 引起的E型膜片上表面的应变 集中力 F 引起的E型膜片上表面的应力 4.6.4 E型圆膜片的建模 3. 受均布压力的E型圆膜片 4.6 膜片的建模 E 形膜片的硬中心处最大法向位移 最大法向位移与其厚度的比值 E形圆膜片上表面的径向位移为 4.6.4 E型圆膜片的建模 4.6 膜片的建模 均布压力 p 引起的E型膜片上表面的应变 均布压力 p 引起的E型膜片上表面的应力 3. 受均布压力的E型圆膜片 第四部分:敏感结构的力学模型 4.1 概 述 4.2 弹性体的应力与应变 4.3 弹性体的能量方程 4.4 弹性圆柱体(杆)的建模 4.5 梁的建模 4.6 膜片的建模 4.7 圆柱壳的建模 4.8 半球壳的建模 4.7.1 带有顶盖的圆柱壳的建模 4.7.2 顶端开口圆柱壳的建模 4.7 圆柱壳的建模 4.7 圆柱壳的建模 4.7.1 带有顶盖的圆柱壳的建模 1. 能量基本方程 圆柱壳的结构示意图 圆柱壳位移示意图 4.7 圆柱壳的建模 4.7.1 带有顶盖的圆柱壳的建模 1. 能量基本方程 小挠度变形,圆柱壳弹性势能 圆柱壳动能 4.7 圆柱壳的建模 4.7.1 带有顶盖的圆柱壳的建模 1. 能量基本方程 圆柱壳内产生的初始应力 初始应力引起的初始弹性势能 4.7 圆柱壳的建模 4.7.1 带有顶盖的圆柱壳的建模 2. 圆柱壳环单元的有限元列式 环向波数为n的对称振型 零压力下环单元刚度矩阵、质量矩阵,环单元初始刚度矩阵 任意压力下的单元总刚度矩阵 4.7 圆柱壳的建模 4.7.1 带有顶盖的圆柱壳的建模 3. 有限元方程 于是可以形成,圆柱壳总体刚度矩阵 K ,总体质量矩阵 M 求解谐振频率和相应的振型的方程 结合具体边界条件对上式处理后,便可以求出环向波数 n 的沿轴线方向分布的各阶振型及相应的固有频率 4.7 圆柱壳的建模 4.7.2 顶端开口圆柱壳的建模 1. 近似解析解 利用能量泛函原理可以得到该圆柱壳固有频率的近似值 或 4.7 圆柱壳的建模 4.7.2 顶端开口圆柱壳的建模 2. 底端约束的特征 理论与实验研究表明,该类圆柱壳的固有振动频率,与底端结构参数关系很大,特别对实用中 的模态影响最大。影响程度与 正相关。直接影响着轴线方向位移 的约束程度。当 的值增大时,对位移 的约束程度增加,圆柱壳的谐振频率增加 设计这类敏感元件时,若要提高抗外界干扰能力,应增大 的值 新型传感技术及应用 主要内容 第一部分:绪 论 第二部分:传感器的主要性能指标 第三部分:传感器中的敏感材料与工艺 第四部分:敏感结构的力学模型 第五部分:几种典型的传感器 第六部分:传感器的典型应用 第四部分:敏感结构的力学模型
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