制绒原理及相应问题对策.pptVIP

硅片表面沾污的来源 硅片有手指印，在清洗前看不见，但是清洗后却清晰可见； 硅片切割后清洗工艺中的有机物沾污； 硅片表面的碳沾污； 硅片切割时润滑剂的粘污。如果润滑剂过粘，会出现无法有效进入刀口的现象，如润滑剂过稀则冷却效果不好。这些润滑剂在高温下有可能碳化粘附在硅片表面。 硅片经过热碱处理后提出在空气中，时间过长会与空气中的氧反应形成一层氧化层，这层氧化层一旦形成就很难再清洗下去了。因此，在碱清洗后不能在空气中暴露12秒以上。 表面油脂货摊沾污的结果 减缓去损伤层的量 无法形成织构化的成核 表面织构化无法形成 制绒注意事项 1、加强制绒前硅片表面的处理，包括表面的清洗及去除损伤层（粗抛） 2、控制硅酸钠含量，包括粗抛及制绒两道工序 表面油脂去除方案 有机溶剂+超声——有机溶剂溶解有机物质 酸性液体去除法——如RCA工艺：热硫酸煮硅片 表面活性剂 NaOCl热处理——利用O自由基的强腐蚀性 方案一、利用NaOCl预清洗 实验条件 ? 1 2 传统织构化工艺 NaOH (8%，75?C，2min) NaOH(2%)+IPA(7%) 新工艺条件 NaOCl(12%，80?C，15min) NaOH(2%)+IPA(7%) 硅片表面的沾污之一 FTIR谱 存在： C=O拉伸键 S-C-O键 烷基硫酸盐 硅片表面的沾污之二 FTIR谱 存在Triazines