半导体光刻工艺培训资料.pdfVIP

光刻工艺技术基础 加工平台王逸群 光刻简介 从半导体制造的初期，光刻就被认为是集成电路制造工艺发展的驱动力。 光刻的本质是把制作在掩膜版上的图形复制到以 后要进行刻蚀和离子注入的晶圆上。其原理与照相 相似，不同的是半导体晶圆与光刻胶代替了照相底 片与感光涂层。 光刻流程图 前道工艺 清洗 表面处理 涂胶 前烘 对准 曝光