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教师评述论文 《基地物理》 2014 年第3 期
巨磁阻抗效应基本原理和应用
1,2 1,2
王建波 ,张毅
(1. 兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室,2.兰州大学物理科学与技术学院应用磁学
研究所, 甘肃 兰州 730000 ;)
要:
本文主要向本科生同学介绍巨磁阻抗效应的原理和基本概念,概述此方向的研究进展和
利用巨磁阻抗材料制作的巨磁阻抗传感器的优点及其应用。
关 键 词: 巨磁阻抗效应;磁场传感器;软磁材料
1 引 言
当一个材料中流过交流电的时候,它可能会展现出一定的阻抗Z=R+jX 。如果这个材料
是一个高磁导率的软磁性材料且是一个高电导率金属材料,当给它通交流电的同时施加一个
直流或者交流磁场时,就有可能使它的阻抗值发生很大的变化,这个效应就是巨磁阻抗
(GMI )效应。1994 年,日本研究人员Mohri 等人在Co 基的非晶丝中发现了巨磁阻抗效应,
[1]
利用这种特性即可制备各种灵敏度非常高的传感器,由此拉开了此方向的研究序幕 。
[2] [3] [4] [5]
人们已经在非晶和纳米晶的薄膜 、多层膜 、带材 和线材 中获得了很大的巨
磁阻抗效应,其磁场灵敏度2%-500%/Oe,比各向异性磁电阻(AMR )和巨磁电阻(GMR )
传感器高1 个数量级,是霍尔传感器的10-100 倍;而且GMI 传感器具有高灵敏度、响应速
度快、体积小等优点,利用材料的这种高灵敏度特性,可制作各种磁控开关、磁敏传感器、
位移传感器、角度传感器等,可广泛用于汽车工业、机 、交通运输、安保、电力、自动控
制、航空航天等各个行业。目前,实际使用中常用的具有GMI 效应的材料主要是通过热淬
急冷的工艺制备的非晶带或者非晶丝软磁材料,如CoFeSiB、FeCuNbSiB 等;具有GMI 效
应的磁性薄膜近年来也逐渐成为此方向的研究热点,因其可集成性、小型化等优势将有希望
成为未来GMI 传感器发展的重点方向。
2 巨磁阻抗效应的基本原理和发展现状
GMI 效应的原理和测量方法如图1 所示,当高电导率且高磁导率的GMI 磁性材料通过
交流电流时,其阻抗Z 随外加磁场Hex 的相对变化,通常可以采用如下两种方式中的任意之
一对其进行定义:
基金项目:本论文为教师特邀评述。
通讯作者:王建波(1975-),男,陕西省米脂县人,博士生导师, 育部“新世纪优秀人才支持计划”入选
者,中国穆斯堡尔谱学专业委员会秘书长,主要研究GHz 和MHz 用高频磁性材料。
联系方式:E-mail: wangj b@lzu.edu.cn,Tel.:
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教师评述论文 《基地物理》 2014 年第3 期
图1. GMI 效应的示意图
其中,Z(H )指的是在外加磁场H 作用下,软磁材料达到磁化饱和状态时样品的阻抗,Z(H )
max ex 0
指的是Hex=0 时软磁材料的阻抗。需要注意的是,如果采用第二种定义方法,通常测量时需
要对样品 磁,使样品的初始状态为完全 磁状态。
GMI 效应的物理起源可以用多种模型进行描述,其中最主要的一种模型可以用高频下
趋肤效应导致的导体导电通路截面的降低来进行解释。导体的阻抗可以表达为
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