第七讲、化学气相沉积与碳纳米管;What is the Deposition?;What is the Chemical Vapor Deposition?;化学气相沉积的基本原理;化学气相沉积的反应类型;影响化学气相沉积产物的主要参数;atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD)
low pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
plasma assisted (enhanced) chemical vapor deposition (PACVD, PECVD)
photochemical vapor deposition (PCVD)
laser chemical vapor deposition (LCVD)
metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) ;化学气相沉积的装置;化学气相沉积的装置;化学气相沉积的装置;化学气相沉积的装置;化学气相沉积的装置;化学气相沉积的装置;化学气相沉积装置的加热方式;化学气相沉积的源物质;化学气相沉积中气态物种的输运;化学气相沉积系统的热力学;化学气相沉积系统的动力学;实验参量对不同控制机制的作用;化学气相沉积的表面过程及沉积机理;化学气相沉积中的成核机理;化学气相沉积中的气
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