湿设备培训显影刻蚀剥膜设备.pptVIP

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显影、刻蚀和剥膜设备;一、显影 显影的基本知识及原理 显影设备 显影过程中易出现的问题 二、刻蚀 刻蚀的基本原理 刻蚀设备 刻蚀过程中注意事项 刻蚀过程中容易出现的问题 三、剥膜 剥膜的基本知识 剥膜设备 剥膜过程中容易出现的问题;一、显影;显影的基本知识;1、显影过程: (1) ITO 显影的PR胶成分:Binder Polymer;Photo-initiator (PI);Cross-linkable monomer(交联单体);Additive;Solvent等。 (2)BUS和ADD浆料的主要成分: Ag; Glass Powder;Resin;Solvent;Filler ;Additives;Others 它们使用的是碱溶性感光树脂。;2、显影的基本工艺参数;3、显影时发生的化学反应: COOH COO-Na+ 2Na2CO3+ Resin 2NaHCO3+ Resin COOH COO-Na+;4、显影液选用Na2CO3的原因: 因为PR胶、BUS电极和ADD电极浆料内使用的都是碱溶性感光树脂,而Na2CO3具有:呈碱性,便宜,容易制备、运输、储存,显影效果好等优点。 为了保证显影质量,必须控制显影液浓度、温度、压力以及显影时间在适当的操作范围内。温度太高或者显影时间太长,会造成PR膜或浆料的质量、硬度和耐化学腐蚀性降低。 ;显影设备;显影设备构成 ;;显影设备基本原理;Tank是由原液 / Mixing / Buffer / Supply Tank构成; 显影液的稀释可通过显影原液和DI供应到Mixing Tank使用循环泵稀释; Mixing Tank和供应Tank的浓度由自动补充 System完成; 安装浓度计管理,Develop浓度管理设定值为±0.3%; Tank下部侧面位置安装Sampling Port用手动V/V,以便提取溶液; 原液Tank : 1套 Mixing Tank : 1套 Buffer Tank : 1套 Supply Tank : 2套(使用#1、#2 Tank切换方式) Sludge Tank : 1套(安装在离心机前端);;显影设备--喷头;;风刀的作用就是尽可能地把基板表面残留的水吹干。风刀与基板的边缘形成一定的角度,从风刀吹出的高压空气流与基板的表面也形成一定角度(约30度)的夹角,这样设置的目的是为了有效而又平稳地将基板表面的水吹 ,而又不至于使气流在基板表面的反射将基板表面的水又带到风刀的后面。双风刀的设置也是为了在尽是吹干水的同时又防止气流把水珠卷到风刀后面,造成二次的污染。风刀吹出的气流与基板的角度及风刀口离基板表面的距离应该是可调的。;显影区 Chemical Filter : 设计为可以管理到5?. Rinse #1: 5? Rinse #2: 2? Rinse #3: 1? Final DI Shower : 0.45? Air Knife Filter : 0.1?, Slit Gap : 0.6mm;Final DI Shower的清洗液使用完后经过filter之后提供给Rinse 3区使用,Rinse 3区的回收液使用完后经过Rinse #3的filter之后提供给Rinse 2区使用,Rinse 2区的回收液经过Rinse #2的filter之后提供给Rinse 1区使用,最后排放出去。;在显影工艺中,对显影质量影响较大的几个因素有: 感光材料本身的特性 感光材料本身特性直接决定了它对显影条件的要求,不同的感光材料,其特性相差很大,如保护ITO电极的PR膜和感光BUS银浆料,它们之间就有很大的差异:PR膜为全有机的材料,透明度相对高,紫外光的透过性好,曝光时要求较小的曝光能量即可达到充分的交联,曝光过程中对紫外光的散射小,显影时,经过光照的部分和未经过光照的部分其在显影液中的溶解性差异大,因此显影时,具有较大的工艺馀度,显影所得的线条边缘也比较整齐。而感光银浆料由于浆料中含有较多的固体成分,对紫外光有较强的阻挡、散射作用,紫外光在浆料中的穿透能力小,因此曝光时要求较大的曝光能量,才能使浆料中的有机感光成分达到较好的交联,而显影时,显影馀度也相对要小很多,显影所得的线条边缘不是很整齐。 显影液的浓度 感光材料在显影液中的溶解性对显影液的浓度大小比较敏感,浓度大,则溶解速度快,反之就小。显影的时候,显影液浓度高,材料溶解速度快,效率高,但是显影的均匀一致性不好控制;浓

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