以分子动力学模拟分析溅镀制程参数对.docVIP

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以分子力模分析程薄膜表面粗糙度之影成功大朱吉川自恭翁政一摘要固薄膜是代高科技中最基也是最重要的一其一般的要求高密度均高度等等於上述的要求在程中的各如沉粒子的能入射角度基板度等均成品的性有性的影本文以物理中衍生出的分子力模奈米薄膜沉的制用二能作沉粒子入能入射角度及基板度的定性模察沉薄膜表面特性以提供程的考二由目的高平坦表面之薄膜被泛的用於今高科技原件之中凡路光原件超等在的程中往往需要足平坦的薄膜表面以求得到高密度的微路在光原件中高平坦的薄膜表面可以少光的散射及其不性如多波分工窄光片常常因境的改而生

PAGE 1 以分子動力學模擬分析濺鍍製程參數對 薄膜表面粗糙度之影響 成功大學 朱訓鵬、黃吉川、張自恭、翁政義 一、摘要 固態薄膜是現代高科技產業中,最基礎,也是最重要的一環,其一般的要求為高密度,均質,高強度….等等,對於上述種種的要求,在製程中的各項參數(如沉積粒子的動能,入射角度,基板溫度等),均對成品的性質有關鍵性的影響。本文以統計物理學中衍生出來的分子動力學,模擬奈米級薄膜沉積的機制,採用銅(Cu) Morse potential二體勢能,作沉積粒子入設動能,入射角度,及基板溫度的定性模擬,觀察濺鍍沉積薄膜暫態表面特性,以提供製程的參考。 二、緣由與目的 高平坦表面之薄膜被廣泛的

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