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電漿基礎實驗 材料進階實驗（一）電漿基礎實驗 何主亮教授編撰 一、實驗目的 本實驗的目的在於親自動手體驗輝光放電電漿的產生過 ,並透過實驗觀察與記錄， 了解電漿特性及基本行為,以便未來投身在電漿材料製程中能夠嫻熟運用這些基本定律。 二、實驗原理 電漿 (Plasma)是物質的第四態，內能和動能遠高於固態、液態和氣態，因而可玆用於 1.材料加工製造：電弧融鍊 (Arc refinement) 及電漿融射 (Plasma spraying) 。 2. 薄膜製造：濺鍍 (Sputter deposition) 、電漿輔助物理氣相沉積 (Plasma assisted physical vapour deposition)及電漿輔助化學氣相沉積 (Plasma assisted chemical vapour deposition) 。 3. 表面改質：電漿氮化 (Plasma nitriding) 、離子佈植 (Ion implantation) 4.發電與推進：高效率的 MHD發電　 (Magnetohydrodynamic energy conversion) 、核融合發 電 (Nuclear fusion power generation) 、太空推進 (Spacecraft ion propulsion) 。 5. 材料分析：感應藕合電漿分光分析儀 (Inductively coupled plasma optical emission spectrometer) 、輝光放電分光分析儀 (Glow discharge optical emission spectrometer) 。 6. 光源：霓虹燈 (Neon light) 、雷射 (Laser light) 電漿的定義是一團帶電荷的氣体分子，並且其中的正電荷（通常為正離子）和負電荷 （通常為電子）總數約略相等；換言之電漿整体呈電中性。通常被激發成電漿態的氣體除 了這兩種帶電荷粒子之外，還有若干激動狀態的中性氣體分子。故通常電漿內含有中性氣 體分子、離子、電子和激動狀態的中性氣體分子。這幾種族群的成員多寡及各成員所攜帶的 動能，端視氣體種類、氣體壓力以及外部有多少能量輸入而定。產生電漿有好幾種方式，例 如對氣体施予足夠強的電場、施予電子束轟擊或施予雷射，都能將氣體激發成電漿狀態。就 像固體轉變為液體或液體轉變為氣體一樣，只要持續不斷的供給能量，電漿就會持續不斷 的存在。 不同氣體壓力下生成的電漿俱有不同的特性，如圖所示1 [1] ，當氣体壓力較高時，氣 體分子和電子具有相同的動能，此種電漿中的氣体溫度 (亦即氣體動能)高於常溫，可資運 用於材料製造與加工，電弧融鍊、電漿融射及感應藕合電漿分光分析儀即利用此種電漿。這 種電漿稱為高壓電漿 (High pressure plasma) ，又因為電子溫度和氣體溫度相同，故又稱為 平衡電漿(Equilibrium plasma)或等溫電漿 (Isothermal plasma) 。當氣體壓力降到一定程度時， 離子溫度和電子溫度開始分道揚鑣，電子因擁有足夠的平均自由徑 且質量遠小於離子，受 電場加速的效應 十分顯著 而提昇動能。這樣的高能電子可資用於氣相沉積的輔助工具。濺鍍 、 電漿輔助物理氣相沉積和電漿輔助化學氣相沉積即利用此種電漿。若干化學氣相沉積 法甚 至動用電子 迴旋共振 (Electron cyclotron resonance) 來提高電子動能促進電漿中的氣體進行 活化反應。低壓氣體生成的電漿稱為低壓電漿　 (Low pressure plasma)或 低溫電漿 (Low temperature plasma) ，此處低溫所指是 針對氣體溫度而言，又因為電子溫度和離子溫度不 同，故又稱為 非平衡電漿　(Non-equilibrium plasma) 　或 非等溫電漿 (Non-isothermal plasma) 。