离子渗氮技术研究进展.doc

离子渗氮技术研究进展 摘 要: 为了克服传统离子渗氮的一些固有缺点, 近些年来出现一些新的离子渗氮技术, 如活性屏离子渗氮、等离子体源离子渗氮、离子注入离子渗氮等,本文简要介绍了这些新技术及其原理、特点,总结了这类技术的共性模型。其中, 活性屏离子渗氮技术和等离子体源离子渗氮技术有着明显的设备和工艺优势,可能成为离子渗氮技术的发展方向。 关键词: 离子渗氮; 活性屏; 等离子体源 ; 离子注入 Ionodialysis nitrogen technology research progress Abstract:In order to overcome traditional ionodialysis nitrogen, some of the intrinsic defects in recent years to appear some new ionodialysis nitrogen technologies, such as active screen ionodialysis nitrogen, plasma source ionodialysis nitrogen, ion implantation ionodialysis nitrogen etc, this paper briefly introduces the new technology and its principle, characteristics, summarizes the general model of this kind of technology. Among them, the active screen ionodialysis nitrogen technology and plasma source ionodialysis nitrogen technology has obvious equipment and craft superiority, may become ionodialysis nitrogen technology development direction Key words:Ionodialysis nitrogen, Active screen, Plasma sources, Ion implantation 引言:离子渗氮是一门综合性的应用技术,涉及到放电物理、真空、化学、电子学、 材料科学等多门学科。离子渗氮技术现已被广泛地应用于机床零件、动力机械零件以及工模具和高速钢刀具等重要零件的表面强化处理。它对提高产品质量,节省原材料,降低劳动强度,提高效率, 减少环境污染有着重要意义。离子渗氮是离子化学热处理中开发最早、 应用最广的一项技术,已成为许多产品零件不可或缺的表面强化工艺。目前,该工艺的进展主要是: 扩大应用范围,如工具、 模具、 钛合金、铝合金、粉末冶金以及不锈钢(奥氏体、马氏体型等 )的离子渗氮工艺的开发应用;为了提高零部件的某些特殊性能,在离子渗氮的基础上开发了离子多元共渗, 如为了改善渗层的抗咬合性, 发展了离子硫氮碳共渗等多元共渗工艺。重点开发离子渗氮与其它工艺的复合处理,如离子渗氮PCVD复合处理、离子渗氮-氧化复合处理、离子渗氮- 激光复合处理等。在离子渗氮的基础上开发新的表面处理技术。 1 离子辉光原理及特点 1.1 气体辉光放电 在物理学中有这样一种试验装置,在玻璃管中封入2个极板,抽真空使管内气体压强降低到1133~ 133 Pa[1],然后在两电极上加上电压。当电压增加到某一值时, 管内呈现出美丽的发光现象。这就是气体的辉光放电。气体辉光放电的实质就是气体在特定的场合下发生的一种导电现象[2]。 1.2 气体辉光放电时阴阳极间形成几个发光区 气体分子或原子(甚至离子)在受到外来高能粒子的撞击时,可能出现2 种现象:(1)电离 即气体分子或原子(甚至离子)系统内失去一个电子, 系统带正电荷,称为气体的电离。(2)受激 即高能粒子使原子核内层轨道上运动的电子跃迁到能量较高的外层轨道上运动,处在不稳定状态,因此,外层轨道上运动的电子会自动返回到原来轨道上去,即处于稳定状态。在这过程中,多余的能量便以光波的形式辐射出来, 这就是见到的辉光。由于每种气体原子的能级不同,辐射出来的光波波长不同, 因此, 辉光的颜色也不同。如: 氢是淡蓝色,氮是紫红色,离子氮化用的氨是紫蓝色[3]。 2 离子轰击化学热处理及离子渗氮原理 离子轰击炉是把气体辉光放电的试验装置变为工业生产所需的设备, 离子渗氮就是其中的一例。它是利用辉光放电形成等离子体在金属表面进行渗氮处理。