GB/T 32814-2016硅基MEMS制造技术　基于SOI硅片的MEMS工艺规范.pdf

ICS31.200 L55 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT32814 2016 硅基MEMS制造技术 基于SOI硅片的MEMS工艺规范 Silicon-basedMEMSfabricationtechnolo — gy SecificationforcriterionoftheSOIwaferbasedMEMS rocess p p 2016-08-29发布 2017-03-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 / — GBT32814 2016 目 次 前言 ………………………………………………………………………………………………………… Ⅰ 1 范围 ……………………………………………………………………………………………………… 1 2 规范性引用文件 ………………………………………………………………………………………… 1 3 术语和定义 ……………………………………………………………………………………………… 1 4 工艺流程 ………………………………………………………………………………………………… 1 4.1 概述 ………………………………………………………………………………………………… 1 4.2 硅片清洗 …………………………………………………………………………………………… 2 4.3 掩膜制备 …………………………………………………………………………………………… 2 4.4 干法刻蚀 …………………………………………………………………………………………… 4 4.5 结构释放 …………………………………………………………………………………………… 5 4.6 硅片去掩膜 ………………………………………………………………………………………… 7 5 工艺加工能力 …………………………………………………………………………………………… 7 5.1 工艺能力要求 ……………………………………………………………………………………… 7 5.2 工艺稳定性要求 …………………………………………………………………………………… 8 6 工艺保障条件要求 ……………………………………………………………………………………… 8 6.1 人员要求 …………………………………………………………………………………………… 8 6.2 环境要求 …………………………………………………………………………………………… 8 6.3 设备要求 …………………………………………………………………………………………… 8 7 原材料及辅助材料要求 ………………………………………………………………………………… 9 8 安全与环境操作要求 …………………………………………………………………………………… 9 8.1 安全 ………………………………………………………………………………………………… 9 8.2 化学试剂 …………………………………………………………………………………………… 10 8.3 排放 ………………………………………………………………………………………………… 10 9 检验……………………………………………………………………………………………………… 10 9.1 总则 ……………………………………………………………………