集成电路布图设计权.docVIP

集成电路布图设计权 　　一九四七年二月二十三日，在美国的贝尔实验室，巴丁、布拉顿和肖克莱发明了世界上第一只晶体管。在当时，谁也不曾料到，这小小晶体管的发明竟然拉开了二十世纪后半叶新技术革命的序幕。五十年代，人们发明了平面工艺，很快制出了集成电路。在此后三十多年的时间里，集成电路以令人瞠目的速度迅猛发展，集成规模由小规模发展到中规模，继而又发展为大‘规模、超大规模。今天，人们已可在一块9.74X 20.28平方毫米的硅片上集成1.4亿个元件 （64MDRAM的集成度）。技术的进步大大地拓宽了集成电路的应用领域；发挥着巨大的作用，因此，世界各国都投入了大量人力、物力研究和开发集成电路技术。与此同时，也有一些厂商以各种方式获取他人的技术，利用他人的技术成果牟取暴利。正是在这样一种情形下，集成电路酌法律保护问题开始受到有关各界以及发的关注，为此，一些工业发达国家相继颁布关保护集成电路保护的法律，保护集成电成为世界的共识。我国对集成电路知识产，保护一直采取积极的态度，为集成电路同护制度作出了重要的贡献，并已在一九八九年 五月通过的世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权条约》文本上签字。集成电路的知识产权保护问题已摆在了我们面前，有必要文进行认真的研究。 集成电路（integrated circuit）是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、二极管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起，制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上，然后封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的微型结构；其中所有元件在结构上已组成一个整体，使电子元件向着微小型化、低功耗和高可靠性方面迈进了一大步。它在电路中用字母“IC”表示。集成电路发明者为杰克·基尔比（基于硅的集成电路）和罗伯特·诺伊思（基于锗的集成电路）。当今半导体工业大多数应用的是基于硅的集成电路。 　　一、集成电路布图设计的概念 　　集成电路的布图设计是指一种体现了集成电路中各种电子元件的配置方式的图形。集成 电路的设计过程通常分为两个部分：版图设计和工艺。所谓版图设计是将电子线路中的各个 元器件及其相互连线转化为一层或多层的平面图形，将这些多层图形按一定的顺序逐次排列 构成三维图形结构；这种图形结构即为布图设计。制造集成电路就是把这种图形结构通过特 定的工艺方法，“固化”在硅片之中，使之实现一定的电子功能。所以，集成电路是根据要实现的功能而设计的。不同的功能对应不同的布图设计。从这个意义上说，对布图设计的保护也就实现了对集成电路的保护。 　　集成电路作为一种工业产品，应当受到专利法的保护。但是，人们在实践中发现，由于集成电路本身的特性，大部分集成电路产品不能达到专利法所要求的创造性高度，所以得不到专利法的保护。于是，在一九七九年，美国众议院议员爱德华（Edward）首次提出了以著作权法来保护集成电路的议案。但由于依照著们法将禁止以任何方式复制他人作品，这样实施 反向工程也将成为非法，因此，这一议案在当时被议会否决。尽管如此，它对后来集成电路保护的立法仍然有着重要意义，因为它提出了以保护布图设计的方式来保护集成电路的思想；在这基础上，美国于1984年颁布了《半导体芯。片保护法》；世界知识产权组织曾多次召集专家会议和政府间外交会议研究集成电路保护问题，逐渐形成了以保护布图设计方式实现对集成电路保护的一致观点，终于在一九八九年缔结了《关于保护集成电路知识产权条约》。在此期间，其他一些国家颁布的集成电路保护法都采用了这一方式。 　　虽然世界各国的立法均通过保护布图设计来保护集成电路，但关于布图设计的名称却各不相同。美国在它的《半导体芯片保护法，）中称之为“掩模作品”（maskwork）；在日本的《半导体集成电路布局法》中称之为“线路布局”（cir— cuitlayout）；而欧共体及其成员国在其立法中称布图设计为“形貌结构”（topography）；世界知识产权组织在《关于集成电路知识产权条约》中将其定名为布图设计。笔者以为，在这所有的名称中以“布图设计”一词为最佳。“掩模作品”一词取意于集成电路生产中的掩模。“掩模作品”一词已有过时落后之嫌，而“线路布局”一词又难免与电子线路中印刷线路版的布线、设计混淆。“形貌结构”一词原意为地貌、地形，并非电子学术语。相比之下，还是世界知识产权组织采用的“布图设计”一词较为妥当。它不仅避免了其他名词的缺陷，同时这一名词本身已在产业界及有关学术界广泛使用。《中国大百科全书》中亦有“布图设计”的专门词条‘ 　　二、布图设计的特征 　　布图设计有着与其他客体相同的共性，同时也存在着自己所特有的个性。下面将分别加以论述。 　　1.集成电路布图设计具有无形性 　　无形性是各种知识产权客体的基本特性，，因此也是布图设计作为知