钽粉的选择与应用.pptVIP

钽粉的选择与应用 钽粉制取方法和主要类型 钽粉的物理性能和化学性能 钽粉的电性能 钽粉检验与评价 钽粉的选择及实际应用 钽粉制取方法和主要类型 钽粉的制取 1，钠还原法（W） K2TaF7+5Na=Ta+2KF+5NaF 得到的粉末具有复杂的珊瑚状结构，通过调整稀释剂比例（KCL，NaCL等无机盐），可以得到不同比表面积的钽粉。 较大的比表面积和良好的物理、化学性能、电器性能,使其在钽电容的应用中最为广泛。 2，电子束熔炼法（D） Ta—电子束熔炼炉—钽锭—氢化—制粉 —热处理—调配 热处理温度高、提纯优良、粒形简单、击穿 电压高，标称CV值基本小于2500uf?v/g，适合高压和高可靠性电容的生产。 3，片式化钽粉（P） 钠还原钽粉—磨片—热处理—调配 钽粉粒性为扁平或平板状，氧化膜形成连续性、稳定性优良，损耗及漏电特性相对得到提升，CV值相对较高。 4，气相还原法 Ta2O5+5Mg=2Ta+5Mg Starck公司率先采用的气相镁还原钽氧化物工艺， 其相对钠还原法制造的钽粉能获得更高的CV值 和提纯效果，获得更为优良的物理、化学及烧 结(耐烧性）特性，用于100000 ufv/