氮化钛镀膜技术的研究现状.docVIP

氮化钛镀膜技术的研究现状 摘要:本文介绍了TiN薄膜性质与结构、常用的制备方法及存在问题，并分析可（氮化处理）和复合镀TiN薄膜技术等方面的研究及其应用现状，探讨了进一步提高TiN薄膜的使用性能及应用范围研究方向。 关键词:TiN 氮化 复合表面技术 Research Status on technique of plating on titanium nitride Abstract: The research status of the TiN films, the method and problem of technique of plating on titanium nitride are reviewed. then surface pre-treating (nitride) before plating on titanium nitride is introduced. at last ,the research direction on improving performance of titanium nitride and expand the scope of its application is put forward . Key words：TiN Nitride Technique of hybrid coating 0 前言 实际生产中机械零件的失效多发生在表面或从表面开始。据统计，表面损伤失效占全部失效的80%以上，我国每年仅因磨损造成的损失就高达数千亿元[1]。因此，研究如何提高材料的耐磨性是极具有应用价值的课题。将超硬薄膜材料镀于材料表面，这种方法既保持了基体材料的强度等力学特性，而镀于表面的薄膜又能发挥它“超硬、强韧、耐磨、自润滑”的优势，从而大大提高了材料的耐用度和适应性[2]。薄膜的硬度与耐磨性有着最直接的关系，薄膜硬度高于磨粒硬度是薄膜有效抵制磨粒或粒子流冲击及磨损的前提,所以提高硬度是提高其耐磨性最有效的途径[3]。氮化钛(TiN)薄膜因其高硬度、低摩擦因数、耐高温等优良的综合力学性能，是目前工艺研究和应用最为广泛的薄膜材料之一[4]。 1 TiN薄膜研究概况 1.1 TiN的性质及结构 TiN属于间隙相，熔点高达2955℃，原子之间的结合为共价键、金属键及离子键的混合键，其中金属原子间存在金属键。因此，TiN薄膜具有高硬度（理论硬度21GPa）、优异的耐热耐磨和耐腐蚀等特性，并且具有显著的金属特性：金属光泽、优良的导电性及超导性[5]。 TiN具有典型的NaCl型结构，属于面心立方点阵（F.C.C），其中Ti原子占据面心立方的角顶。并且TiN是非计量化合物，Ti和N组成的化合物TiN1-x可以在很宽的组成范围内稳定存在，其范围为TiN0.6—TiN1.16。氮的含量可在一定范围内变化而不引起TiN的结构变化。 1.2 TiN镀膜技术的发展方向 TiN薄膜因具有高硬度、低摩擦系数、高粘着强度、化学稳定性好、与钢铁材料的热膨胀系数相近等优点而被广泛应用于各个领域，特别是被用作高质量的切割工具,抗磨粒、磨蚀和磨损部件的表面工程材料[6，7]。但随着社会的进步，人们对薄膜的综合性能要求越来越高，单一的TiN薄膜，由于与基体结合强度较低，易于从基体剥落，严重影响了零件的使用寿命，这些都在一定程度上限制了TiN薄膜的应用[8，9]。90年代人们通过多组元薄膜、多层薄膜设计、复合薄膜来提高TiN薄膜的性能，并取得了一些进展： （1）多组元薄膜 用氮化物、碳化物和硼化物对TiN进行合金化，合金元素进入TiN晶体的某一晶胞取代Ti原子，从而形成含合金元素的(Tix，Me1-x)N，如果这些晶体结构参数和TiN晶体差别较大，那么含(Tix，Me1-x)N晶胞的TiN晶体整体性能将发生明显的变化。总之，可在二元TiN基础上研制出一些多元薄膜Ti-C-N、Ti-B-N、Ti-Al-N、Ti-Zr-N、Ti-Cr-N等，组成种类繁多的复合型化合物和固溶体薄膜，并结合纳米技术的发展，可以制备满足不同领域特殊要求的薄膜。这是一个极有发展前途的研究方向。 （2）多层薄膜 金属多层膜是一种金属或合金沉积在另一金属或合金上形成的组分或结构周期性变化的材料。由于多层膜材料具有较强的界面效应、层间耦合效应等，因此显示出与单层膜许多不同的特性。因为TiN薄膜具有良好的韧性，用其作为多层膜的间隔层，表现出优良的机械及化学特性。 （3）复合薄膜 复合薄膜是指物理气相沉积薄膜与其它的表面处理工艺或薄膜相结合，形成一种带过渡层(或中间层)的双层薄膜。在其的研究中过渡层的选择是一个研究热点，可充分发挥各种薄膜的性能，使TiN薄膜的结合力、耐磨性、抗氧化能力等得到更大程度的改善。 目前TiN 多元薄膜、多层薄膜由于工艺的