非平衡磁控溅射技术制备用于红外减反射的无氢碳膜.pdfVIP

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2019-09-15 发布于湖北
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非平衡磁控溅射技术制备用于红外减反射的无氢碳膜.pdf

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第25卷。第6期材料科学与工程学报总第110期／ V01．25No．6 ofMaterials Dec．2007 Journal Science＆Engineering Article ID：1673-2512(2007)06．0850．04 CarbonFilmsUnbalanced Hydrogen-free by Magnetron forInfraredAnti-reflection Sputtering Coatings XU Hlli．qin91，LIUWei．gu02，HANGLing．xia Jun．qil”，FAN ofSolidification ofMaterialsScienceand (1．State Engineering， KeyLaboratory Processing，School Northwestern of 710072，China；2．School PolytechnicniUniversity，Xi’an Opto-electronic 710032，China) Engineering，Xi’inlTechnologicalUniversity，Xi’811 diamond．1ike materialstobeused够infraredanti—reflection 【Abstract】The carbon(DLC)filmsa托potential hydrogen-free iftheir canbereducedto thickfilmsneeded．Inthis DLCfilmswere protectivecoatings opticalabsorption getrelatively study，hydrogen-free inanunbalanced resultsoffilmthickness showedthatthis is deposited magnetronsputtering(UBMS)system．Theuniformity systemcapable of infrared DLCfilms films uniformfdms than150mmindiameter．Thetransmissionof