第1章 真空技术的物理基础.pptVIP

真空镀膜技术 2学分，其中28学时，4学时实验 本课程内容包括：真空技术，薄膜技术 两部分 教材： 1。王欲知，陈旭 ，真空技术，北京航空航天大学 出版社 ， 2007.1 2。杨帮朝，王文生，薄膜物理与技术，电子科技撒学出版社， 1994年 3。汪贵华的教学手稿，2011年3月 第1章 真空技术的物理基础 简单叙述真空技术的基本理论 详细的内容请看教材。 真空的概念 在真空技术中，“真空”泛指低于一个大气压的气体状态，换言之，同正常的大气比，是较为稀薄的一种气体状态. 同正常的大气比, 气体的分子数少，压强低 。 随着海拔高度（离海平面的垂直高度）越高，气体越稀薄。 通常意义上，在地球上，人能生存的状况都不应称作真空。 真空应说成低于周围大气压的状态。 真空的单位 在真空技术中，压强所采用的法定计量单位是帕斯卡（Pascal），系千克米秒制单位，简称帕(Pa), 是目前国际上推荐实用的国际单位制（SI）。 1Kg×9.80665m/s2=9.80665 牛顿 (Kg.m/s2) 1Pa =1牛顿/平方米=1 Kg /m.s2 1个标准大气压(atm)＝0.76m×13595.1Kg/m3×9.80665m/s2= =101325牛顿／m2=101325Pa=1.01325×105Pa 1个标准大气压=760mmHg高 1毫米泵柱（mmHg